特許
J-GLOBAL ID：200903062472653858
チャックテーブルに保持された被加工物の計測装置およびレーザー加工機
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
小野 尚純
, 奥貫 佐知子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-005709
公開番号（公開出願番号）：特開2008-170366
出願日： 2007年01月15日
公開日（公表日）： 2008年07月24日
要約：
【課題】チャックテーブルに保持された半導体ウエーハ等の被加工物の上面高さや厚みを確実に計測できる計測装置および計測装置を装備したレーザー加工機を提供する。【解決手段】白色光を発光する白色光源と、白色光を集光する色収差レンズと、白色光源と色収差レンズとの間に配設され被加工物に照射された白色光の反射光を分光するビームスプリッターと、分光された反射光を集光する第1の集光レンズと、第1の集光レンズの集光点位置に配設され集光された反射光が通過するピンホールを備えたマスクと、ピンホールを通過した反射光を集光する第2の集光レンズと、第2の集光レンズによって集光された反射光を回折光に変換する回折格子と、回折光を集光する第3の集光レンズと、集光された回折光の波長を検出する波長検出手段と、波長検出手段からの波長信号に基いてチャックテーブルに保持された被加工物の高さ位置を求める制御手段とからなっている。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
加工機に装備される被加工物を保持するチャックテーブルに保持された被加工物の高さを計測する計測装置であって、
白色光を発光する白色光源と、該白色光源が発光した白色光を集光してチャックテーブルに保持された被加工物に照射する色収差レンズと、該白色光源と該色収差レンズとの間に配設され被加工物に照射された白色光の反射光を分光するビームスプリッターと、該ビームスプリッターによって分光された反射光を集光する第1の集光レンズと、該第1の集光レンズの集光点位置に配設され該第1の集光レンズによって集光された反射光が通過するピンホールを備えたマスクと、該マスクのピンホールを通過した反射光を集光する第2の集光レンズと、該第2の集光レンズによって集光された反射光を回折光に変換する回折格子と、該回折格子によって回折された回折光を集光する第3の集光レンズと、該第3の集光レンズによって集光された回折光の波長を検出する波長検出手段と、該波長検出手段からの波長信号に基いてチャックテーブルに保持された被加工物の高さ位置を求める制御手段と、を具備し、
該制御手段は、該色収差レンズによって集光された白色光の波長と焦点距離との関係を設定した制御マップを格納するメモリを備えており、該波長検出手段からの波長信号を該制御マップと照合して該色収差レンズからの焦点距離を求めることにより、チャックテーブルに保持された被加工物の高さ位置を計測する、
ことを特徴とするチャックテーブルに保持された被加工物の計測装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (29件)：
2F065AA24
, 2F065AA30
, 2F065BB02
, 2F065BB03
, 2F065CC19
, 2F065DD11
, 2F065EE07
, 2F065FF10
, 2F065FF48
, 2F065GG02
, 2F065GG07
, 2F065GG24
, 2F065JJ02
, 2F065JJ16
, 2F065JJ25
, 2F065LL10
, 2F065LL30
, 2F065LL42
, 2F065LL46
, 2F065LL67
, 2F065NN20
, 2F065PP12
, 2F065QQ23
, 2F065QQ25
, 2F065TT02
, 2F065TT08
, 4E068CA12
, 4E068CC01
, 4E068CE09
出願人引用 (2件)
審査官引用 (7件)
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