特許
J-GLOBAL ID：200903062768236080

イオン注入装置およびその調整方法

発明者：
山下 貴敏

山下 貴敏 について

, 
田村 茂久

田村 茂久 について


出願人/特許権者：
日新イオン機器株式会社

日新イオン機器株式会社 について


代理人 (1件)： 山本 恵二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-206200
公開番号（公開出願番号）：特開2008-034230
出願日： 2006年07月28日
公開日（公表日）： 2008年02月14日
要約：
【課題】 注入位置でのリボン状イオンビームのY方向におけるビーム電流密度分布の均一性を高めることができるイオン注入装置を提供する。【解決手段】 このイオン注入装置は、リボン状のイオンビーム4を発生させるイオン源2内に原料ガス34を導入するものであってY方向に配列された複数のガス導入部38と、それから導入する原料ガス34の流量を調節する複数の流量調節器36とを備えている。更に、イオンビーム4のY方向におけるビーム電流密度分布を測定するビーム測定器46と、それによる測定情報に基づいて各流量調節器36を制御して、注入位置でのイオンビーム4のY方向におけるビーム電流密度分布を均一化する制御装置50とを備えている。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
原料ガスを電離させてプラズマを生成して、互いに実質的に直交する2方向をX方向およびY方向とすると、Y方向の寸法が、X方向の寸法よりも大きくかつターゲットのY方向の寸法よりも大きいリボン状のイオンビームを発生させるイオン源と、 前記イオンビームをターゲットに入射させる注入位置で、ターゲットを前記イオンビームの主面と交差する方向に移動させるターゲット駆動装置とを備えるイオン注入装置において、 前記イオン源内に前記原料ガスをそれぞれ導入するものであってY方向に配列された複数のガス導入部と、 この各ガス導入部から導入する原料ガスの流量をそれぞれ調節する複数の流量調節器とを備えていることを特徴とするイオン注入装置。
IPC (4件)：
H01J 27/02 ,  H01J 37/317 ,  H01J 37/08 ,  H01J 37/04
FI (4件)：
H01J27/02 ,  H01J37/317 Z ,  H01J37/08 ,  H01J37/04 A
Fターム (5件)：
5C030AA04 ,  5C030AB05 ,  5C034CC01 ,  5C034CD02 ,  5C034CD07
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • イオン注入装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-123765   出願人：日新イオン機器株式会社
審査官引用 (7件)
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