特許
J-GLOBAL ID：200903062814771750

縦型熱処理装置及び縦型熱処理装置における移載機構の制御方法

発明者：
浅利 聡

浅利 聡 について

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高橋 喜一

高橋 喜一 について

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小山 勝彦

小山 勝彦 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (2件)： 絹谷 信雄 ,  金坂 憲幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-076134
公開番号（公開出願番号）：特開2007-251088
出願日： 2006年03月20日
公開日（公表日）： 2007年09月27日
要約：
【課題】構造の簡素化、コストの低減及び検出速度の向上を図り、被処理体及び保持具の損傷を最小限に抑制する。【解決手段】熱処理炉3と、被処理体wを上下方向に多段に保持して熱処理炉3に搬入搬出される保持具9と、昇降及び旋回可能な基台25上に被処理体wを支持する複数枚の基板支持具20を進退可能に有し、被処理体wを所定間隔で収納する収納容器16と保持具9との間で被処理体wの移載を行う移載機構21と、該移載機構21を制御するコントローラ52とを備え、コントローラ52が、移載機構21を駆動するモータ50にフィードバックされる位置、速度、電流の情報を監視し、該情報と予め設定された正常駆動時の情報とを比較して移載機構21の衝突時の異常駆動を検出し、該異常駆動を検出した時に移載機構21の駆動を停止すると共に異常駆動の発生を通報するように構成されている。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
熱処理炉と、多数枚の被処理体を上下方向に所定間隔で多段に保持して上記熱処理炉に搬入搬出される保持具と、昇降及び旋回可能な基台上に被処理体を支持する複数枚の基板支持具を水平方向に進退可能に有し、複数枚の被処理体を所定間隔で収納する収納容器と上記保持具との間で被処理体の移載を行う移載機構と、該移載機構を制御するコントローラとを備え、上記コントローラが、移載機構を駆動するモータにフィードバックされる位置、速度、電流の情報を監視し、該情報と予め設定された正常駆動時の情報とを比較して上記移載機構の衝突時の異常駆動を検出し、該異常駆動を検出した時に上記移載機構の駆動を停止すると共に異常駆動の発生を通報するように構成されていることを特徴とする縦型熱処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/677 ,  H01L 21/31 ,  H01L 21/22
FI (3件)：
H01L21/68 A ,  H01L21/31 E ,  H01L21/22 511J
Fターム (25件)：
5F031CA02 ,  5F031FA01 ,  5F031FA09 ,  5F031FA11 ,  5F031FA12 ,  5F031GA03 ,  5F031GA36 ,  5F031GA50 ,  5F031JA06 ,  5F031JA22 ,  5F031JA27 ,  5F031JA45 ,  5F031JA51 ,  5F031PA20 ,  5F031PA30 ,  5F045AB32 ,  5F045BB20 ,  5F045DP19 ,  5F045EB08 ,  5F045EM01 ,  5F045EM09 ,  5F045EM10 ,  5F045EN04 ,  5F045GB15 ,  5F045GB16
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (5件)
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