特許
J-GLOBAL ID：200903063256580567

日射遮蔽体形成用タングステン酸化物微粒子の製造方法、日射遮蔽体形成用タングステン酸化物微粒子および日射遮蔽体形成用分散液並びに日射遮蔽体

発明者：
長南 武

長南 武 について

, 
足立 健治

足立 健治 について


出願人/特許権者：
住友金属鉱山株式会社

住友金属鉱山株式会社 について


代理人 (3件)： 阿仁屋 節雄 ,  油井 透 ,  清野 仁
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-352052
公開番号（公開出願番号）：特開2005-187323
出願日： 2004年12月03日
公開日（公表日）： 2005年07月14日
要約：
【課題】 可視光透過率を高く保ったまま、赤外線の透過率を低くできる日射遮蔽体に用いるタングステン酸化物微粒子とその製造方法、当該タングステン酸化物微粒子を用いた日射遮蔽体形成用分散液および日射遮蔽体を提供する。【解決手段】 タングステン酸を大気中で焼成して焼成粉とし、当該焼成粉をN2ガスをキャリアとしたH2ガスを供給しながら加熱して還元処理を行い、日射遮蔽体に用いるタングステン酸化物微粒子を得、当該微粒子と、高分子系分散剤と、トルエンとを混合し、粉砕・分散処理することによって日射遮蔽体形成用分散液を製造した。製造された当該分散液と、UV硬化樹脂と、トルエンとを、混合・攪拌して日射遮蔽体形成用分散液を調製し、当該日射遮蔽体形成用分散液を樹脂フィルム上へ塗布した後、UVを照射し日射遮蔽体を得た。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
タングステン酸(H2WO4)、または、タングステン酸(H2WO4)と三酸化タングステン微粒子との混合物を、不活性ガスまたは不活性ガスと還元性ガスとの混合ガス雰囲気下で焼成することにより、一般式WyOz(但し、Wはタングステン、Oは酸素、2.2≦z/y≦2.999)で表されるタングステン酸化物微粒子を生成させることを特徴とする日射遮蔽体形成用タングステン酸化物微粒子の製造方法。
IPC (4件)：
C01G41/00 ,  C01B33/20 ,  C03C17/32 ,  C23C30/00
FI (4件)：
C01G41/00 A ,  C01B33/20 ,  C03C17/32 A ,  C23C30/00 C
Fターム (39件)：
4C083AB21 ,  4C083CC19 ,  4C083DD17 ,  4C083FF01 ,  4G048AA02 ,  4G048AA03 ,  4G048AA05 ,  4G048AB01 ,  4G048AC08 ,  4G048AD04 ,  4G048AE05 ,  4G048AE07 ,  4G059AA01 ,  4G059AC06 ,  4G059AC07 ,  4G059EA01 ,  4G059EB05 ,  4G059FA07 ,  4G059FA09 ,  4G059FA28 ,  4G059FB03 ,  4G073BA30 ,  4G073BA63 ,  4G073BA84 ,  4G073BD01 ,  4G073BD22 ,  4G073CD01 ,  4G073GA03 ,  4G073GA33 ,  4G073GB09 ,  4G073UB31 ,  4K044AA12 ,  4K044AA16 ,  4K044AB02 ,  4K044BA12 ,  4K044BB01 ,  4K044BC12 ,  4K044CA27 ,  4K044CA53
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (10件)
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引用文献：
審査官引用 (1件)

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