特許
J-GLOBAL ID:200903063760999633

レーザ装置およびレーザ加工装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 阿仁屋 節雄 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-346250
公開番号(公開出願番号):特開2001-168425
出願日: 1999年12月06日
公開日(公表日): 2001年06月22日
要約:
【要約】【課題】励起光源の集光性に依存せずに、簡単かつ低コストな構成で、レーザファイバのようなレーザ光導光体を効率良く励起することが可能にしたレーザ装置およびレーザ加工装置を提供する。【解決手段】長尺で可撓性のレーザ光導光体1を多数回巻回または折り返して所定の塊状に形作るとともに、この塊状をなすレーザ光導光体1を励起光源3と共に、光反射面41で取り囲まれた光学的な閉塞領域42内に閉じ込めて、その閉塞領域42内で反射された励起光が上記レーザ光導光体1の側面から分布導入されるようにする。
請求項(抜粋):
レーザ活性物質を内部に含み、多数回巻回または折り返されて所定の塊状を形作っている長尺で可撓性のレーザ光導光体と、上記レーザ活性物質を励起するための励起光を発する励起光源と、光反射面で取り囲まれた光学的な閉塞領域を形成する反射囲繞部とを有し、上記レーザ光導光体の少なくとも一部と上記励起光源の発光領域の少なくとも一部とが占める領域を上記光学的な閉塞領域内に閉じ込めることにより、励起光がその閉塞領域内に閉じ込められながら上記レーザ光導光体内に分布導入されて上記レーザ活性物質を励起させるようにしたことを特徴とするレーザ装置。
IPC (3件):
H01S 3/06 ,  H01S 3/00 ,  H01S 3/093
FI (3件):
H01S 3/06 B ,  H01S 3/00 B ,  H01S 3/093
Fターム (11件):
5F072AB08 ,  5F072AK06 ,  5F072JJ04 ,  5F072JJ05 ,  5F072JJ08 ,  5F072KK02 ,  5F072PP01 ,  5F072PP07 ,  5F072YY06 ,  5F072YY11 ,  5F072YY17
引用特許:
審査官引用 (14件)
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