特許
J-GLOBAL ID：200903021554434021

レーザ装置および光アンプおよびレーザ加工装置

発明者：
関口 宏

関口 宏 について


出願人/特許権者：
ホーヤ株式会社

ホーヤ株式会社 について


代理人 (1件)： 阿仁屋 節雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-208175
公開番号（公開出願番号）：特開2001-036172
出願日： 1999年07月22日
公開日（公表日）： 2001年02月09日
要約：
【要約】【課題】レーザ媒体3に対する励起光11の導入を効率良く行わせるとともに、塵などの汚れによるレーザ出力低下を防止できるようにしたレーザ装置および光アンプおよびレーザ加工装置を提供する。【解決手段】励起光源1から導光部材2への励起光11の導入を光導入部4を介して行わせるとともに、上記励起光源1に対する上記光導入部4の入光窓41面積を、上記光導入部4に対する上記導光部材2の入光窓42面積よりも大きくする。
請求項（抜粋）：
励起光源からの励起光を閉じ込めながらレーザ媒体に分布導入させるように形成された導光部材を有するレーザ装置であって、上記励起光源から上記導光部材への励起光の導入を光導入部を介して行わせるとともに、上記励起光源に対する上記光導入部の入光窓面積を、上記光導入部に対する上記導光部材の入光窓面積よりも大きくしたことを特徴とするレーザ装置。
IPC (2件)：
H01S 3/094 ,  H01S 3/06
FI (2件)：
H01S 3/094 S ,  H01S 3/06 B
Fターム (10件)：
5F072AB08 ,  5F072AK06 ,  5F072FF09 ,  5F072JJ02 ,  5F072JJ05 ,  5F072KK30 ,  5F072PP07 ,  5F072RR01 ,  5F072YY06 ,  5F072YY17
引用特許：
審査官引用 (19件)
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