レーザ照明光学系及びそれを用いた露光装置、レーザ加工装置、投射装置

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：樺山亨 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-351686
公開番号（公開出願番号）：特開2003-149594
出願日： 2001年11月16日
公開日（公表日）： 2003年05月21日
要約：

【要約】【課題】レーザアレイ光源を用いたレーザ照明光学系において、レーザアレイ光源のアレイ垂直方向の光束に起因する干渉縞を減らし、照度の均一化を図る。【解決手段】本発明は、少なくともレーザアレイ光源11と、ホログラム素子12で構成されるレーザ照明光学系であって、レーザアレイ光源11のアレイ方向と垂直な光束成分がホログラム素子12によってガウシアンプロファイルから均一強度の光束に変換され、被照射部13上で各レーザ光束のアレイ方向に平行な光束成分がピーク強度の1/e<SP>2</SP>倍となる距離をWとすると、各レーザ光束の被照射部でのプロファイルのピッチPが、0<P≦Wの条件を満たすように、隣接する光束を重ね合わせることを特徴としており、レーザアレイ光源のアレイ垂直方向の光束を変調ピッチのホログラム素子でビームプロファイルを変換させるため、被照射部で干渉縞が発生しにくく、照明性能が良くなる。

請求項（抜粋）：

少なくともレーザアレイ光源と、ホログラム素子で構成されるレーザ照明光学系であって、前記レーザアレイ光源のアレイ方向と垂直な光束成分が前記ホログラム素子によってガウシアンプロファイルから均一強度の光束に変換され、被照射部上で各レーザ光束のアレイ方向に平行な光束成分がピーク強度の1/e<SP>2</SP>倍となる距離をWとすると、各レーザ光束の被照射部でのプロファイルのピッチPが、0<P≦Wの条件を満たすように、隣接する光束を重ね合わせることを特徴とするレーザ照明光学系。

IPC (6件)：

G02B 27/09 , G02B 5/18 , G02B 5/32 , G03B 21/00 , G03F 7/20 521 , H01L 21/027

FI (6件)：

G02B 5/18 , G02B 5/32 , G03B 21/00 E , G03F 7/20 521 , G02B 27/00 E , H01L 21/30 515 D

Fターム (11件)：

2H049AA26 , 2H049AA65 , 2H049CA01 , 2H049CA08 , 2H049CA18 , 2H049CA22 , 5F046BA03 , 5F046CA03 , 5F046CB12 , 5F046CB23 , 5F046CB27

引用特許：

審査官引用 (9件)

レーザー照射光学系
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-305130 出願人：ミノルタ株式会社
回路基板における金層の表面の浄化方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-064239 出願人：松下電工株式会社
特開昭64-075943

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