特許
J-GLOBAL ID:200903064189651370
感放射線性組成物
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
千田 稔 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-151285
公開番号(公開出願番号):特開2000-338678
出願日: 1999年05月31日
公開日(公表日): 2000年12月08日
要約:
【要約】【課題】 感度、解像力が良好で、レジストパターンの表面荒れが小さく、良好な形状のレジストパターンを形成しうる感放射線性組成物を提供する。【解決手段】 酸の作用でアルカリ可溶性が増大する樹脂及び光酸発生剤を含有する感放射線性組成物に於て、更に分子内にアルコール性水酸基を含有するカルボン酸アミド類を含有することを特徴とする感放射線性組成物。
請求項(抜粋):
酸の作用でアルカリ可溶性が増大する樹脂及び光酸発生剤を含有する感放射線性組成物に於て、更に分子内にアルコール性水酸基を含有するカルボン酸アミド類を含有することを特徴とする感放射線性組成物。
IPC (8件):
G03F 7/039 601
, C08K 5/17
, C08K 5/20
, C08K 5/43
, C08L101/14
, G03F 7/004 501
, G03F 7/004 503
, H01L 21/027
FI (8件):
G03F 7/039 601
, C08K 5/17
, C08K 5/20
, C08K 5/43
, C08L101/14
, G03F 7/004 501
, G03F 7/004 503 A
, H01L 21/30 502 R
Fターム (32件):
2H025AA01
, 2H025AA02
, 2H025AA03
, 2H025AA04
, 2H025AB03
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025CB17
, 2H025CB29
, 2H025CB41
, 2H025CC20
, 4J002AA001
, 4J002AA051
, 4J002BC121
, 4J002CC031
, 4J002EN007
, 4J002EN107
, 4J002EP016
, 4J002EU047
, 4J002EU137
, 4J002EV218
, 4J002EV248
, 4J002EV268
, 4J002EV298
, 4J002FD200
, 4J002GP03
, 4J002GQ05
引用特許:
審査官引用 (10件)
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レジスト組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-312672
出願人:日本ゼオン株式会社
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ポジ型レジスト材料
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-077419
出願人:日本電信電話株式会社
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パターン形成方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-186952
出願人:信越化学工業株式会社
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特開平4-068355
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感光性永久マスクパターンの製造法及び現像液
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-192651
出願人:日立化成工業株式会社
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レジスト塗布組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-197814
出願人:日本合成ゴム株式会社
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感放射線性樹脂組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-253741
出願人:日本合成ゴム株式会社
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感放射線性樹脂組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-261875
出願人:日本合成ゴム株式会社
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感放射線性組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-134535
出願人:三菱化学株式会社
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特開昭63-149638
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