微粒子発生方法及び装置

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-139128
公開番号（公開出願番号）：特開2006-314900
出願日： 2005年05月11日
公開日（公表日）： 2006年11月24日
要約：

【課題】レーザー光を固体に照射し溶融、プラズマの衝撃により発生する「レーザーアブレーション」においては、微粒子は、粒径分布が数十nmから数μmまでと広く、必要とされるサブμmの微粒子の割合を大きくすることができない。また、溶融した物質の一部しか微粒子として飛散しないため、パルスレーザー1ショットにより発生される微粒子量が十分でないなどの問題がある。また、気化物質を気中で凝集する方法においては、微粒子径を数十nm以上にするのは容易ではないという問題がある。【解決手段】微粒子化すべき物質を透明な基板の上に蒸着等により付着させ、基板に対して透明な波長のレーザーを基板側から照射して該付着させた物質を微粒子として放出することにより上記課題を解決することができる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

微粒子発生方法であって、微粒子化すべき物質を透明な基板の上に付着させ、該基板に対して透明な波長のレーザーを基板側から照射することにより、該物質を微粒子として放出することを特徴とする微粒子発生方法。

IPC (3件)：

B01J 19/12 , B22F 9/02 , H05G 2/00

FI (3件)：

B01J19/12 H , B22F9/02 Z , H05G1/00 K

Fターム (25件)：

4C092AA06 , 4C092AB10 , 4C092AC09 , 4G075AA27 , 4G075BB10 , 4G075BC01 , 4G075CA36 , 4G075DA02 , 4G075EB41 , 4G075FA12 , 4G075FB06 , 4G075FB12 , 4G075FC04 , 4K017AA02 , 4K017BA01 , 4K017BA02 , 4K017BA03 , 4K017BA04 , 4K017BA05 , 4K017BA06 , 4K017BA10 , 4K017CA03 , 4K017CA07 , 4K017DA01 , 4K017EF05

引用特許：

審査官引用 (10件)

感熱転写記録方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-077209 出願人：コニカ株式会社
特開平4-296568
レーザプラズマX線発生装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-311277 出願人：有限会社サイファー社

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