ディスプレイ製造におけるシャドウマスクの洗浄方法(変形)および装置

発明者： , ,
出願人/特許権者： , ,
代理人 (3件)：三枝英二 , 掛樋悠路 , 谷田龍一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-157099
公開番号（公開出願番号）：特開2007-007644
出願日： 2006年06月06日
公開日（公表日）： 2007年01月18日
要約：

【課題】高速化、洗浄温度の低下、極薄マスクの洗浄の質向上、マスクの初期形状の維持、および時間の短縮化による生産性の向上を達成する、OLED(有機発光ダイオード)ディスプレイの製造工程で汚染されたシャドウマスクの洗浄方法および装置を提供する。【解決手段】真空チャンバ1内においてイオン源2によりイオンビームを生成するステップと、チャンバ1内に、イオン源2の放射面3と対向させてマスク4を配置するステップとを含み、マスク4を配置した冷却ホルダ7を真空チャンバ1内に配置して、イオン源2の放射面3に面した、マスクの被処理面5を、リボンイオンビームを集束させることによりスキャンし、単一のイオンビームをこの面上に通過させている間にマスク面の要素が受け取るエネルギー線量が最大許容過熱に相当する熱量を超過しないように、スキャニングの速度を選択し、また、酸素または酸素との混合物をイオン生成ガスとして使用する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

ディスプレイ製造においてシャドウマスクを洗浄する方法であって、当該方法は、真空チャンバ内においてイオン源によりイオンビームを生成するステップと、前記チャンバ内に、イオン源の放射面と対向させて前記マスクを配置するステップと、を含み、前記マスクを配置した冷却ホルダを前記真空チャンバ内に配置して、前記イオン源の放射面に面した、前記マスクの被処理面を、リボンイオンビームを集束させることによりスキャンし、単一のイオンビームをこの面上に通過させている間に前記マスク面の要素が受け取るエネルギー線量が、最大許容過熱に相当する熱量を超過しないように、スキャニングの接線速度を選択し、また、酸素または酸素との混合物をイオン生成ガスとして使用することを特徴とする方法。

IPC (2件)：

B08B 7/00 , C23C 14/00

FI (2件)：

B08B7/00 , C23C14/00 B

Fターム (11件)：

3B116AA02 , 3B116AB23 , 3B116BC01 , 4K029BA31 , 4K029BA62 , 4K029CA01 , 4K029DA09 , 4K029DB05 , 4K029DB06 , 4K029FA09 , 4K029HA01

引用特許：

審査官引用 (7件)

精密エッチング及びコーティング装置
公報種別：公表公報出願番号：特願平10-528811 出願人：ガタン・インコーポレーテッド
有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置及び製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-370403 出願人：ソニー株式会社
特開平4-120730

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