特許
J-GLOBAL ID:200903065668119255
多孔体の製造方法、及び多孔体
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
杉村 興作
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-036868
公開番号(公開出願番号):特開2004-244689
出願日: 2003年02月14日
公開日(公表日): 2004年09月02日
要約:
【課題】空孔の大きさを微小領域で自由に制御することができるとともに、前記空孔のアスペクト比を向上させることのできる、多孔体の製造方法、及び微細かつ高アスペクト比の空孔を有する多孔体を提供する。【解決手段】原料を溶解させた後、凝固させて2以上の相が規則的に晶出した合金系を作製する。次いで、前記合金系において晶出させた、前記2以上の相の内の少なくとも一つを除去し、この除去された相が位置した部分において空孔を形成して多孔体を製造する。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
原料を溶解させた後、凝固させて2以上の相が規則的に晶出した合金系を作製する工程と、
前記合金系において晶出させた、前記2以上の相の内の少なくとも一つを除去し、この除去された相が位置した部分において空孔を形成する工程と、
を具えることを特徴とする、多孔体の製造方法。
IPC (3件):
C25F3/02
, B22D25/02
, B22D27/02
FI (3件):
C25F3/02 Z
, B22D25/02 G
, B22D27/02 U
引用特許:
引用文献:
審査官引用 (1件)
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金属組織学序論, 19790330, 10版, p.137-153
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