特許
J-GLOBAL ID：200903065846991077

リソグラフィー用リンス液及びそれを用いたレジストパターン形成方法

発明者：
澤田 佳宏

澤田 佳宏 について

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越山 淳

越山 淳 について

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脇屋 和正

脇屋 和正 について

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宮本 敦史

宮本 敦史 について

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田島 秀和

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出願人/特許権者：
東京応化工業株式会社

東京応化工業株式会社 について


代理人 (2件)： 阿形 明 ,  水口 崇敏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-357460
公開番号（公開出願番号）：特開2006-163212
出願日： 2004年12月09日
公開日（公表日）： 2006年06月22日
要約：
【課題】 リソグラフィー技術を用いてホトレジストパターンを形成させる際に、製品の表面欠陥、いわゆるディフェクトを減少させ、水リンスにおけるパターン倒れを抑制し、かつ電子線照射に対する耐性を付与して、パターンの収縮を防止することにより、製品の歩留りを向上させるために有効で、しかも水切り速度を促進し、生産効率を上げることができるリンス液を提供する。【解決手段】 水溶性含窒素複素環化合物を含有する水性溶液からなるリソグラフィー用リンス液であって、 (A)基板上にホトレジスト膜を設ける工程、 (B)該ホトレジスト膜に対しマスクパターンを介して選択的に露光処理する工程、 (C)露光後加熱処理する工程、 (D)アルカリ現像する工程、及び (E)前記したリソグラフィー用リンス液で処理する工程を行うことによりレジストパターンを形成する。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
水溶性含窒素複素環化合物を含有する水性溶液からなるリソグラフィー用リンス液。
IPC (2件)：
G03F 7/32 ,  H01L 21/027
FI (2件)：
G03F7/32 501 ,  H01L21/30 502R
Fターム (4件)：
2H096AA25 ,  2H096EA06 ,  2H096FA01 ,  2H096GA18
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (4件)
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