特許
J-GLOBAL ID：200903066024158663

受動モード同期光ポンピング半導体の外部空洞共振器面発光レーザ

発明者：
パショッタ,リューディガー

パショッタ,リューディガー について

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ヘーリング,レート

ヘーリング,レート について

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ケラー,ウルズラ

ケラー,ウルズラ について


出願人/特許権者：
ギガテラ・アクチェンゲゼルシャフト

ギガテラ・アクチェンゲゼルシャフト について


代理人 (1件)： 深見 久郎 (外5名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-559112
公開番号（公開出願番号）：特表2003-523092
出願日： 2001年02月09日
公開日（公表日）： 2003年07月29日
要約：
【要約】受動モード同期光ポンピング半導体の垂直外部空洞共振器面発光レーザ(OPS-EXSEL)を開示する。このレーザは、外部空洞共振器の一部を形成する、半導体可飽和吸収体ミラー(SESAM)によってモード同期される。エッジ発光レーザのビームの質の限界、および電気ポンピング面発光レーザの出力の限界の両方が克服される。このレーザは、量子井戸のスタックを単一ブラッグミラー構造に隣接して成長させた半導体ウェハを用いる。1つ以上の多モード高出力ダイオードレーザからの光は、ウェハの表面上に集束され、バリア領域における吸収により、井戸をポンピングする。アクティブミラー上のレーザモードの領域を、エッジ発光レーザの面上のモード領域よりも約104倍大きくすることができ、それにより、高出力および大きなパルスエネルギーを生成することができるようになる。同時に、外部空洞共振器は、円形の、回折限界に近いビームにおける基本モード動作を強化する。このレーザにより、結合された空洞共振器の影響をなくし、外部パルスを圧縮することにより、サブピコセカンドのパルス時間を得ることができる。バンドギャップ工学を用いてパルスを形成することができ、または、同一ウェハ内で利得と可飽和吸収とを統合することもできる。したがって、この発明により、回折限界に近いビームにおける高出力と、サブピコセカンドのパルス時間と、多重GHz繰返し数とを備えた、安定した効果的なパルスレーザソースを形成することができ、バンドギャップ工学によりアクセス可能な波長の、広い幅において動作する。
請求項（抜粋）：
パルス化した電磁レーザ放射を行なうためのレーザであって、 第1の反射要素とそれから分離した第2の反射要素とを含み、前記第1および第2の反射要素は、レーザ放射のための光共振器を規定し、前記レーザはさらに、 本質的には表面内に広がる表面を有し、前記レーザ放射を行なうための、本質的には平坦な半導体利得構造と、 前記表面から前記レーザ放射を行なうために、前記半導体利得構造を励起させるための手段とを含み、前記励起手段は、前記半導体利得構造に射突するポンピング放射を行なうためのポンピングソースを含み、前記レーザはさらに、 前記レーザ放射をモード同期するための半導体可飽和吸収体構造を含む、レーザ。
IPC (2件)：
H01S 5/183 ,  H01S 5/065
FI (2件)：
H01S 5/183 ,  H01S 5/065
Fターム (6件)：
5F073AA65 ,  5F073AA74 ,  5F073AB17 ,  5F073AB29 ,  5F073EA14 ,  5F073EA15
引用特許：
審査官引用 (13件)
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