フッ素含有排水の処理方法およびその処理装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：岡田英彦 , 福田鉄男 , 犬飼達彦 , 中村敦子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-346399
公開番号（公開出願番号）：特開2004-174439
出願日： 2002年11月28日
公開日（公表日）： 2004年06月24日
要約：

【課題】本発明は、半導体・液晶・電子部品製造に使用されるPFC(パーフロロコンパウンズ)ガスの除害後の排水処理とくに排水中のフッ素化合物の再利用方法およびそのための装置を提供する。【解決手段】フッ素含有排水の処理方法として、フッ素含有排水を脱塩及び濃縮する電気透析工程を備え、前記脱塩処理液を前記フッ素含有排水の発生源への補給水として再生し、前記フッ酸濃縮液を利用可能な濃度のフッ酸溶液として再生する程度に電気透析することを特徴とする。この方法によれば、フッ素含有排水をフッ酸酸性のまま、電気透析工程により、処理することにより、目的のフッ酸濃度を備えた濃縮水および脱塩水を得る。脱塩水は、スケール成分としてトラブルを起こす懸念のあるカルシウムイオン等が十分に除去されているため除害装置の補給水として再利用することができる。一方、3〜10Wt%のフッ酸濃度を備えた濃縮液は、鉄鋼酸洗液等として再利用する。また、フッ素を珪フッ化物として晶析分離することにより、析出物をヘキサフルオロ珪酸塩として再資源化可能とするものである。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

フッ素含有排水の処理方法であって、フッ素含有排水を脱塩及び濃縮する電気透析工程を備え、前記脱塩処理液を前記フッ素含有排水の発生源への補給水として再生し、前記フッ酸濃縮液を利用可能な濃度のフッ酸溶液として再生する程度に電気透析することを特徴とする方法。

IPC (8件)：

C02F1/469 , B01D9/02 , B01D61/42 , B01D61/46 , B01D61/58 , B01D65/08 , C02F1/44 , C02F1/58

FI (9件)：

C02F1/46 103 , B01D9/02 608A , B01D9/02 615A , B01D61/42 , B01D61/46 , B01D61/58 , B01D65/08 , C02F1/44 E , C02F1/58 M

Fターム (40件)：

4D006GA17 , 4D006HA47 , 4D006HA93 , 4D006JA20A , 4D006JA41A , 4D006JA42A , 4D006JA43A , 4D006JA44A , 4D006JA53A , 4D006JA56A , 4D006KA52 , 4D006KA56 , 4D006KA63 , 4D006KA72 , 4D006KB30 , 4D006MA03 , 4D006MA13 , 4D006MA14 , 4D006MB07 , 4D006PA02 , 4D006PB08 , 4D006PB27 , 4D006PC01 , 4D038AA08 , 4D038AB40 , 4D038BA04 , 4D038BB09 , 4D038BB10 , 4D038BB13 , 4D061DA05 , 4D061DB18 , 4D061DC13 , 4D061EA09 , 4D061EB01 , 4D061EB13 , 4D061EB40 , 4D061FA09 , 4D061FA11 , 4D061FA20 , 4D061GC19

引用特許：

審査官引用 (13件)

特開平1-130783
半導体製造工場の廃液処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-361386 出願人：株式会社日立製作所
硝フッ酸廃液等の酸混合液からの二種の酸の分離回収方法とその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-159416 出願人：神鋼パンテツク株式会社, 株式会社トクヤマ

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