特許
J-GLOBAL ID：200903066494474189
フォトマスク
発明者：
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出願人/特許権者：
,
代理人 (1件)：
阿仁屋 節雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-139573
公開番号（公開出願番号）：特開2007-310175
出願日： 2006年05月18日
公開日（公表日）： 2007年11月29日
要約：
【課題】 フォトマスク使用時における異物発生を防止したフォトマスクを提供する。【解決手段】 透明基板2と、透明基板2の中央部の主要領域3に形成された、転写用パターン4と、主要領域3の外周領域に、主要領域3に隣接して設けられた、遮光帯領域5と、ペリクル枠6bにペリクル膜6aが接着剤8aで接着されてなるペリクル6とを有し、このペリクル6が、主要領域3の外周領域に形成された遮光膜からなる遮光領域7上に接着剤8bを介して接着されるようになっている。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
露光装置を用いたパターン転写に用いられるフォトマスクであって、透明基板と、透明基板の中央部の主要領域に形成された所望の転写用パターンと、前記主要領域の外周領域にペリクル枠が接着されることにより、前記主要領域を含む領域を覆うように装着されたペリクルとを有するフォトマスクにおいて、
前記主要領域の外周領域に透明基板が露出した透光領域を含み、かつ、前記ペリクル枠が接着される面を含む領域が、前記露光装置の露光光に対して遮光性を有する遮光膜が形成された遮光領域からなることを特徴とするフォトマスク。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (5件)：
2H095BA06
, 2H095BB03
, 2H095BC04
, 2H095BC36
, 2H095BC38
出願人引用 (1件)
審査官引用 (7件)
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