特許
J-GLOBAL ID：200903067057182876

レーザ照射方法およびレーザ照射装置、並びに半導体装置の作製方法

発明者：
山崎 舜平

山崎 舜平 について

, 
田中 幸一郎

田中 幸一郎 について


出願人/特許権者：
株式会社半導体エネルギー研究所

株式会社半導体エネルギー研究所 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-294305
公開番号（公開出願番号）：特開2004-128421
出願日： 2002年10月07日
公開日（公表日）： 2004年04月22日
要約：
【課題】半導体装置の作製工程において、高調波のCWレーザを半導体膜上に相対的に走査させながら照射すると、走査方向に延びた長い結晶粒がいくつも形成される。このようにして形成された半導体膜は前記走査方向においては実質的に単結晶に近い特性のものとなるが、高調波のCWレーザの出力が小さくアニールの効率が悪い。【解決手段】第2高調波に変換されたCWレーザと同時に基本波のCWレーザを半導体膜の同一部分に照射することで、出力の補助を行う。通常、基本波は1μmあたりの波長域に入り、この波長域では半導体膜に対する吸収が低い。しかしながら、可視光線以下の高調波を基本波と同時に半導体膜に照射すると、高調波により溶かされた半導体膜に基本波はよく吸収されるため、アニールの効率が著しく上がる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
可視光線以下の波長を出力するレーザ発振器1と、前記レーザ発振器1から射出されるレーザビーム1を照射面もしくはその近傍にて長いビームに加工する手段と、基本波を出力するレーザ発振器2と、前記照射面において、前記レーザビーム1が照射される範囲に前記レーザ発振器2から射出されるレーザビーム2を照射する手段と、前記レーザビーム1及び前記レーザビーム2に対して前記照射面を相対的に第1方向に移動させる手段と、前記レーザビーム1及び前記レーザビーム2に対して前記照射面を相対的に第2方向に移動させる手段とを有するレーザ照射装置。
IPC (6件)：
H01L21/268 ,  G02F1/1333 ,  H01L21/20 ,  H01L21/336 ,  H01L29/786 ,  H01S3/00
FI (6件)：
H01L21/268 J ,  G02F1/1333 500 ,  H01L21/20 ,  H01S3/00 A ,  H01L29/78 627G ,  H01L29/78 627F
Fターム (108件)：
2H090HC12 ,  2H090HC13 ,  2H090HC15 ,  2H090HC18 ,  2H090JB02 ,  2H090JB03 ,  2H090JC19 ,  2H090LA12 ,  5F052AA02 ,  5F052AA11 ,  5F052AA17 ,  5F052AA24 ,  5F052BA02 ,  5F052BA07 ,  5F052BA18 ,  5F052BB01 ,  5F052BB02 ,  5F052BB04 ,  5F052BB05 ,  5F052BB06 ,  5F052BB07 ,  5F052CA07 ,  5F052CA10 ,  5F052DA02 ,  5F052DB03 ,  5F052EA16 ,  5F052FA06 ,  5F052JA01 ,  5F052JA02 ,  5F052JA04 ,  5F072AA02 ,  5F072AA03 ,  5F072AA05 ,  5F072AA06 ,  5F072AB02 ,  5F072AB04 ,  5F072AB05 ,  5F072AB07 ,  5F072AB15 ,  5F072AB20 ,  5F072KK12 ,  5F072KK30 ,  5F072MM08 ,  5F072MM09 ,  5F072MM17 ,  5F072PP07 ,  5F072QQ02 ,  5F072YY08 ,  5F110AA30 ,  5F110BB01 ,  5F110BB04 ,  5F110CC02 ,  5F110CC08 ,  5F110DD01 ,  5F110DD02 ,  5F110DD03 ,  5F110DD05 ,  5F110DD12 ,  5F110DD13 ,  5F110DD14 ,  5F110DD15 ,  5F110DD17 ,  5F110EE01 ,  5F110EE04 ,  5F110EE05 ,  5F110EE09 ,  5F110EE14 ,  5F110EE23 ,  5F110EE32 ,  5F110EE48 ,  5F110FF02 ,  5F110FF03 ,  5F110FF09 ,  5F110FF28 ,  5F110FF35 ,  5F110GG02 ,  5F110GG13 ,  5F110GG36 ,  5F110GG45 ,  5F110HJ01 ,  5F110HJ12 ,  5F110HJ23 ,  5F110HL03 ,  5F110HL04 ,  5F110HL06 ,  5F110HL11 ,  5F110HM15 ,  5F110NN03 ,  5F110NN12 ,  5F110NN22 ,  5F110NN23 ,  5F110NN24 ,  5F110NN27 ,  5F110NN34 ,  5F110NN35 ,  5F110PP01 ,  5F110PP03 ,  5F110PP05 ,  5F110PP06 ,  5F110PP07 ,  5F110PP10 ,  5F110PP29 ,  5F110PP31 ,  5F110PP34 ,  5F110QQ04 ,  5F110QQ11 ,  5F110QQ23 ,  5F110QQ28
引用特許：
審査官引用 (12件)
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