特許
J-GLOBAL ID：200903068024887510
薄膜パネル加工装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
吉武 賢次
, 永井 浩之
, 岡田 淳平
, 勝沼 宏仁
, 鈴木 清弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-139887
公開番号（公開出願番号）：特開2006-315030
出願日： 2005年05月12日
公開日（公表日）： 2006年11月24日
要約：
【課題】レーザ加工中における加工クズや加工部周辺のバリ等の発生を防止して、レーザ加工の安定性を飛躍的に向上させることができる、薄膜パネル加工装置を提供する。【解決手段】移動テーブル15により薄膜パネル30がレーザ加工位置Pに対して相対的に移動している状態で、レーザ加工装置10により薄膜パネル30の上面側(基板31側)からレーザ光Lが照射されると、レーザ光Lは、薄膜パネル30の基板31を透過して薄膜32に到達し、薄膜パネル30の薄膜32が加工される。薄膜パネル30の裏面側(薄膜32側)では、薄膜32のレーザ加工によって加工クズや加工部周辺でのバリ等が発生するが、これらの加工クズやバリ等は、レーザ加工装置10により薄膜パネル30の薄膜32が加工されているレーザ加工中に洗浄装置20により洗浄される。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
薄膜パネルの所定の位置をレーザ光を用いて加工する薄膜パネル加工装置において、
基板の片面上に加工対象となる薄膜が形成された薄膜パネルを支持する支持機構と、
前記支持機構により支持された前記薄膜パネルのうち前記薄膜が形成されていない面の側に配置されたレーザ加工装置であって、前記薄膜パネルの前記薄膜を加工するように前記薄膜パネルに対してレーザ光を照射するレーザ加工装置と、
前記薄膜パネルのうち前記薄膜が形成されている面の側に配置された洗浄装置であって、前記レーザ加工装置により前記薄膜パネルの前記薄膜が加工されているレーザ加工中に前記薄膜を洗浄する洗浄装置とを備えたことを特徴とする薄膜パネル加工装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (7件)：
4E068AC00
, 4E068CA08
, 4E068CE09
, 4E068CG00
, 4E068CH08
, 4E068CJ07
, 4E068DA09
出願人引用 (2件)
審査官引用 (5件)
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