特許
J-GLOBAL ID：200903069124943200

インプリント用モールド

発明者：
福上 典仁

福上 典仁 について


出願人/特許権者：
凸版印刷株式会社

凸版印刷株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-206629
公開番号（公開出願番号）：特開2007-027361
出願日： 2005年07月15日
公開日（公表日）： 2007年02月01日
要約：
【課題】被転写の基板表面上に塗布されたレジスト層に凹凸形状のパターンを形成するためのインプリント用モールドにおいて、インプリント用モールドのパターン破壊を防ぎ、インプリント用モールドの長寿命化が可能となり、さらにパターンを正確に転写することが可能なインプリント用モールドと、インプリント用モールドの製造方法を提供することである。【解決手段】モールドに形成した凹凸形状のパターンを基板表面上に塗布されたレジスト層に転写するインプリント用モールドのパターン破壊およびそれによるパターン欠陥や異物の発生を防止するために、モールドのパターンエリアの周辺部に緩衝部を配置するインプリント用モールドであって、該緩衝部は、パターンエリアを直線で囲んだ場合のコーナー部に少なくとも配置されているインプリント用モールド。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
モールドに形成した凹凸パターンを基板表面上のレジスト層に転写するインプリント用モールドであって、モールドの凹凸パターンエリアの周辺部に緩衝部を配置することを特徴とするインプリント用モールド。
IPC (5件)：
H01L 21/027 ,  B82B 1/00 ,  B81C 5/00 ,  B29C 39/26 ,  B29C 33/38
FI (5件)：
H01L21/30 502D ,  B82B1/00 ,  B81C5/00 ,  B29C39/26 ,  B29C33/38
Fターム (11件)：
4F202AA36 ,  4F202AA44 ,  4F202AH33 ,  4F202AH73 ,  4F202AJ02 ,  4F202AJ06 ,  4F202CA01 ,  4F202CB01 ,  4F202CD24 ,  4F202CK15 ,  5F046AA28
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (6件)
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