特許
J-GLOBAL ID:200903069272252357

仕様決定方法及びコンピュータシステム

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 立石 篤司
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-023567
公開番号(公開出願番号):特開2002-319539
出願日: 2002年01月31日
公開日(公表日): 2002年10月31日
要約:
【要約】【課題】 投影光学系の製造工程の簡略化が可能で、その投影光学系により光学装置が達成すべき目標を確実に達成せしめる仕様決定方法及びこれを実現するシステムを提供する。【解決手段】 コンピュータシステム10は、光学装置1221〜1223が達成すべき目標情報が入力される第1コンピュータ120と、第1コンピュータ120から通信路を介して受信した目標情報に基づいて投影光学系が満足すべき波面収差を規格値として投影光学系の仕様を決定する第2コンピュータ130とを備える。従って、投影光学系を製造する際に、決定された仕様を満足するように、波面収差の計測結果に基づいて投影光学系を調整することにより、低次収差のみでなく高次収差をも同時に修正することができ、製造工程が簡略化される。しかも、製造された投影光学系により露光装置が達成すべき目標が確実に達成される。
請求項(抜粋):
光学装置で用いられる投影光学系の仕様を決定する仕様決定方法であって、前記光学装置が達成すべき目標情報を得る第1工程と;前記目標情報に基づいて、前記投影光学系が満足すべき波面収差を規格値として前記投影光学系の仕様を決定する第2工程と;を含む仕様決定方法。
IPC (3件):
H01L 21/027 ,  G02B 13/24 ,  G03F 7/20 502
FI (4件):
G02B 13/24 ,  G03F 7/20 502 ,  H01L 21/30 516 A ,  H01L 21/30 502 G
Fターム (13件):
2H087KA21 ,  2H087NA01 ,  2H087NA04 ,  2H087NA09 ,  2H097CA13 ,  2H097GB01 ,  2H097LA10 ,  5F046AA28 ,  5F046BA04 ,  5F046BA05 ,  5F046CB12 ,  5F046CB25 ,  5F046DA13
引用特許:
審査官引用 (6件)
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