特許
J-GLOBAL ID：200903069623299878
光学用合成石英ガラス部材の製造方法及び光学用合成石英ガラス部材
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石原 詔二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-287090
公開番号（公開出願番号）：特開2004-123420
出願日： 2002年09月30日
公開日（公表日）： 2004年04月22日
要約：
【課題】特にエキシマレーザーなどの紫外線を用いた半導体露光装置に好適に用いられるために必要な特性を全て兼ね備えた光学用石英ガラス部材に係わる物品並びにその製造方法、具体的には、高均質、低複屈折及び高い紫外線照射耐性を兼ね備える光学用合成石英ガラス部材並びにその製造方法を提供する。【解決手段】a)揮発性珪素化合物を酸水素火炎により加水分解し、生成する微粒子シリカを耐熱性基体上に堆積させて多孔質母材を作成し、これを1723K以上に加熱して透明な石英ガラス体を得る工程、b)該透明石英ガラス体を少なくとも軟化点以上の温度に加熱し、外力を掛けて変形させることによって脈理を除去する工程、c)該脈理が除去された石英ガラス体を徐冷点以上の温度に一旦保持し、その後徐冷することにより、仮想温度を1273K以下に設定する工程、d)該仮想温度を1273K以下に設定した石英ガラス体を水素ガス含有雰囲気中で、圧力を0.0098MPa〜0.98MPaの範囲で、かつ、773K以下の温度で熱処理を施し、水素分子を含有させる工程、からなるようにした。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
下記a)からd)の各工程を含む光学用合成石英ガラス部材の製造方法。
a)揮発性珪素化合物を酸水素火炎により加水分解し、生成する微粒子シリカを耐熱性基体上に堆積させて多孔質母材を作成し、これを1723K以上に加熱して透明な石英ガラス体を得る工程、
b)該透明石英ガラス体を少なくとも軟化点以上の温度に加熱し、外力を掛けて変形させることによって脈理を除去する工程、
c)該脈理が除去された石英ガラス体を徐冷点以上の温度に一旦保持し、その後徐冷することにより、仮想温度を1273K以下に設定する工程、
d)該仮想温度を1273K以下に設定した石英ガラス体を水素ガス含有雰囲気中で、圧力を0.0098MPa〜0.98MPaの範囲で、かつ、773K以下の温度で熱処理を施し、水素分子を含有させる工程。
IPC (2件)：
FI (5件)：
C03B8/04 L
, C03B8/04 P
, C03B20/00 E
, C03B20/00 F
, C03B20/00 G
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (2件)
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