ポジ型光像形成性底面反射防止膜

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：江崎光史 , 三原恒男 , 奥村義道 , 鍛冶澤實
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-557995
公開番号（公開出願番号）：特表2005-517972
出願日： 2003年01月03日
公開日（公表日）： 2005年06月16日
要約：

本発明は、酸感応性基を有する少なくとも一種の単位及び吸光性発色団を有する少なくとも一種の単位を含むポリマーと光酸発生体とを含む、吸光性の光像形成可能で及び水性現像可能な新規ポジ型反射防止膜用組成物に関する。更に本発明は、このような組成物を使用する方法にも関する。また本発明は、酸感応性基を有する少なくとも一種の単位を含むポリマー、染料及び光酸発生体を含む、吸光性の光像形成可能で及び水性アルカリ現像可能な新規ポジ型反射防止膜用組成物にも関する。更に本発明は、このような組成物の使用方法にも関する。更にまた本発明は、ポジ型フォトレジストと、光像形成可能で水性現像可能な新規ポジ型反射防止膜用組成物とを用いてポジ型の像を形成する新規方法であって、上記反射防止膜用組成物が、酸感応性基を含むポリマーを含む、前記方法にも関する。更に本発明は、このような組成物にも関する。本発明は、光像形成可能な反射防止膜用組成物を像形成する方法にも関する。

請求項（抜粋）：

水性アルカリ性現像剤中で現像可能でかつポジ型フォトレジストの下にコーティングされる、光像形成可能なポジ型底面反射防止膜用組成物であって、光酸発生体と、酸感応性基を有する少なくとも一種の単位及び吸光性発色団を有する少なくとも一種の単位を含むポリマーとを含む、上記反射防止膜用組成物。

IPC (3件)：

G03F7/11 , G03F7/004 , G03F7/039

FI (3件)：

G03F7/11 503 , G03F7/004 505 , G03F7/039 601

Fターム (17件)：

2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB08 , 2H025CB10 , 2H025CB14 , 2H025CB15 , 2H025CB41 , 2H025CC11 , 2H025CC13 , 2H025DA34 , 2H025FA17

引用特許：

審査官引用 (9件)

下層膜用組成物およびこれを用いたパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-186575 出願人：株式会社東芝
反射防止コーティング組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-188850 出願人：シップレーカンパニーエルエルシー
ハレーション止め組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-328816 出願人：シツプリイ・カンパニイ・インコーポレイテツド

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