感光性組成物、およびこれを用いたパターン形成方法、半導体装置の製造方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：佐藤一雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-004729
公開番号（公開出願番号）：特開平11-202495
出願日： 1998年01月13日
公開日（公表日）： 1999年07月30日
要約：

【要約】【課題】短波長の光の吸収が少なく、かつドライエッチング耐性に優れた感光性組成物、これを用いたパターン形成方法、および半導体装置の製造方法の提供。【解決手段】下記の(a)および(b)の構造を含む重合体を含んでなる感光性組成物、それを用いたパターン形成方法、および半導体装置の製造方法。(a)テルペノイド骨格または脂環式骨格、および(b)置換または非置換のシリル基。

請求項（抜粋）：

下記の(a)および(b)の構造を含む重合体を含んでなることを特徴とする感光性組成物。(a)テルペノイド骨格または脂環式骨格、および(b)置換または非置換のシリル基。

IPC (5件)：

G03F 7/075 501 , C08F232/08 , G03F 7/033 , G03F 7/039 601 , H01L 21/027

FI (5件)：

G03F 7/075 501 , C08F232/08 , G03F 7/033 , G03F 7/039 601 , H01L 21/30 502 R

引用特許：

審査官引用 (14件)

感光性組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-156962 出願人：株式会社東芝
アルカリ現像用レジスト
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-213571 出願人：株式会社東芝
特開平3-289658

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