特許
J-GLOBAL ID：200903071409514170
検査方法及び検査支援システム
出願人/特許権者：
株式会社住友金属マイクロデバイス
株式会社住友金属マイクロデバイス について
代理人 (1件)： 河野 登夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-217823
公開番号（公開出願番号）：特開2006-038596
出願日： 2004年07月26日
公開日（公表日）： 2006年02月09日
要約：
【課題】 検査対象を強調して、検査すべき対象の取り違え、検査漏れ、不具合箇所の見逃し、良否の誤判断等を低減することができる検査方法、及び低コストで汎用性が高い検査支援システムを提供する。 【解決手段】 作業者は、電子部品51,52,...が配置された回路基板5に対し液晶パネル23を被せるようにして離隔配置する。液晶パネル23は、電子部品51の位置に対応する高透光領域231a、及び低透光領域231bが混在するパターン231を表示する。作業者は、液晶パネル23に表示されたパターン231の内の高透光領域231aから透けて見える電子部品51を検査する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
検査対象を光学的に検査する方法において、
1又は複数の検査対象が平面的に配置された空間を液晶パネルで覆い、該液晶パネルに、検査対象の位置に対応する高透光領域と、低透光領域とが混在するパターンを表示させ、前記高透光領域を介して前記検査対象を光学的に検査することを特徴とする検査方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (7件)：
引用特許：
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