特許
J-GLOBAL ID：200903071436874421
ポリシラザン含有組成物及びシリカ質膜の形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石田 敬 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-285197
公開番号（公開出願番号）：特開平11-116815
出願日： 1997年10月17日
公開日（公表日）： 1999年04月27日
要約：
【要約】【課題】 ポリシラザンのシリカ転化を高速化すること。【解決手段】 主として下記一般式(I):【化1】(上式中、R1 、R2 、R3 はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール基、これらの基以外でケイ素に直結する部分が炭素が炭素である基、アルキルシリル基、アルキルアミノ基又はアルコキシ基を表すが、但し、R1 とR2 の少なくとも一方は水素原子である)で表される骨格を含む数平均分子量100〜50,000のポリシラザン又はその変性物とN-ヘテロ環状化合物とを含むポリシラザン含有組成物。
請求項（抜粋）：
主として下記一般式(I):【化1】(上式中、R1 、R2 、R3 はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール基、これらの基以外でケイ素に直結する部分が炭素が炭素である基、アルキルシリル基、アルキルアミノ基又はアルコキシ基を表すが、但し、R1 とR2 の少なくとも一方は水素原子である)で表される骨格を含む数平均分子量100〜50,000のポリシラザン又はその変性物とN-ヘテロ環状化合物とを含むポリシラザン含有組成物。
IPC (2件)：
FI (2件)：
引用特許：
出願人引用 (10件)
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審査官引用 (10件)
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