特許
J-GLOBAL ID：200903072117897580

樹脂層付アクティブマトリクス基板の製造方法及び該方法に用いられる現像液並びに該方法で形成される液晶素子

発明者：
田中 光利

田中 光利 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (1件)： 中島 淳 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-324041
公開番号（公開出願番号）：特開2001-142228
出願日： 1999年11月15日
公開日（公表日）： 2001年05月25日
要約：
【要約】【課題】 樹脂層付アクティブマトリクス基板への樹脂層形成時の不良率を低減する。【解決手段】 アクティブマトリクス基板上に感光性樹脂層を形成する工程、該感光性樹脂層をパターン露光する工程、該感光性樹脂層をアルカリ金属の濃度が10ppm以下に管理された現像液を用いて現像する工程を有し、1)現像工程において、現像液が、pKa=7〜13の化合物を0.05〜10mole/Lの濃度含む。また、2)上記の現像工程において、液循環型現像装置の外気流入係数が0.0001〜1である。さらに3)上記の現像工程において、現像装置内の現像液のpHを計測し、該pH値が設定値±0.5の範囲となるよう、現像液または現像液成分の一部を補充する。液晶素子は、これらの方法で得られた樹脂層付アクティブマトリクス基板を用いる。
請求項（抜粋）：
アクティブマトリクス基板上に感光性樹脂層を形成する工程と、該感光性樹脂層をパターン露光する工程と、該感光性樹脂層をアルカリ金属の濃度が10ppm以下に管理された現像液を用いて現像する工程とを有する樹脂層付アクティブマトリクス基板の製造方法であって、前記現像液が、pKa=7〜13の化合物を0.05〜10mole/Lの濃度含むことを特徴とする樹脂層付アクティブマトリクス基板の製造方法。
IPC (3件)：
G03F 7/32 ,  G02F 1/1333 500 ,  G09F 9/00 338
FI (3件)：
G03F 7/32 ,  G02F 1/1333 500 ,  G09F 9/00 338
Fターム (14件)：
2H090HA05 ,  2H090HB13X ,  2H090HC10 ,  2H090HC12 ,  2H096AA27 ,  2H096GA08 ,  2H096GA09 ,  2H096GA10 ,  2H096GA13 ,  2H096GA21 ,  5G435AA17 ,  5G435BB12 ,  5G435HH20 ,  5G435KK05
引用特許：
出願人引用 (10件)
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審査官引用 (10件)
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