特許
J-GLOBAL ID:200903072554028825

微小粒子膜の形成方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小野 信夫 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-015212
公開番号(公開出願番号):特開2003-215378
出願日: 2002年01月24日
公開日(公表日): 2003年07月30日
要約:
【要約】【課題】 マイクロメートルオーダーの周期構造体の作製するための、簡便に微小粒子を配列化する手段を提供すること。【解決手段】 双曲線型四重電極内において、高周波数で変動する電場を印可することにより微小粒子を整列させることを特徴とする微小粒子膜の形成方法。
請求項(抜粋):
双曲線型四重電極内において、高周波数で変動する電場を印加することにより微小粒子を整列させることを特徴とする微小粒子膜の形成方法。
IPC (4件):
G02B 6/13 ,  B01J 19/08 ,  B81C 5/00 ,  G02B 1/02
FI (4件):
B01J 19/08 F ,  B81C 5/00 ,  G02B 1/02 ,  G02B 6/12 M
Fターム (10件):
2H047KA03 ,  2H047KA12 ,  2H047PA00 ,  2H047TA43 ,  4G075AA24 ,  4G075CA14 ,  4G075CA25 ,  4G075DA02 ,  4G075DA18 ,  4G075EC21
引用特許:
審査官引用 (7件)
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引用文献:
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