特許
J-GLOBAL ID：200903073472024402

バリア性フィルム

発明者：
千葉 大道

千葉 大道 について

, 
三上 浩一

三上 浩一 について

, 
坂元 寿

坂元 寿 について


出願人/特許権者：
大日本印刷株式会社

大日本印刷株式会社 について


代理人 (1件)： 金山 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-009308
公開番号（公開出願番号）：特開2006-192858
出願日： 2005年01月17日
公開日（公表日）： 2006年07月27日
要約：
【課題】 基材フィルムと無機酸化物からなる薄膜との密着性に優れ、かつ、酸素ガス、水蒸気等の透過を阻止するバリア性に優れたバリア性フィルムを提供すること。【解決手段】 少なくとも、基材フィルムと、該基材フィルムの一方の面に設けたバリア性層とからなり、更に、該バリア性層は、少なくとも3室以上の製膜室を使用し、かつ、各室毎に、少なくとも、有機珪素化合物の1種以上からなる製膜用モノマ-ガス、酸素ガス、および、不活性ガスを含有する製膜用混合ガス組成物の各ガス成分の混合比を変えて調製した3以上の製膜用混合ガス組成物を使用し、その各製膜用混合ガス組成物を使用して製膜した3層以上のプラズマ化学気相成長法による炭素含有酸化珪素膜からなり、更に、該各炭素含有酸化珪素膜は、その膜中に炭素原子を含有し、かつ、各炭素含有酸化珪素膜毎に炭素含有量が異なることを特徴とするバリア性フィルムに関するもの。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
少なくとも、基材フィルムと、該基材フィルムの一方の面に設けたバリア性層とからなり、更に、該バリア性層は、少なくとも3室以上の製膜室を使用し、かつ、各室毎に、少なくとも、有機珪素化合物の1種以上からなる製膜用モノマ-ガス、酸素ガス、および、不活性ガスを含有する製膜用混合ガス組成物の各ガス成分の混合比を変えて調製した3以上の製膜用混合ガス組成物を使用し、その各製膜用混合ガス組成物を使用して製膜した3層以上のプラズマ化学気相成長法による炭素含有酸化珪素膜からなり、更に、該各炭素含有酸化珪素膜は、その膜中に炭素原子を含有し、かつ、各酸化珪素膜毎に炭素含有量が異なることを特徴とするバリア性フィルム。
IPC (2件)：
B32B 9/00 ,  C23C 16/40
FI (2件)：
B32B9/00 A ,  C23C16/40
Fターム (60件)：
4F100AA20B ,  4F100AA20C ,  4F100AA20D ,  4F100AA37B ,  4F100AA37C ,  4F100AA37D ,  4F100AH06B ,  4F100AH06C ,  4F100AH06D ,  4F100AK01A ,  4F100AK03A ,  4F100AK41A ,  4F100AK42 ,  4F100AK46A ,  4F100AK52B ,  4F100AK52C ,  4F100AK52D ,  4F100AL05B ,  4F100AL05C ,  4F100AL05D ,  4F100AT00A ,  4F100BA04 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10B ,  4F100BA10C ,  4F100BA10D ,  4F100BA13 ,  4F100EJ38 ,  4F100EJ381 ,  4F100EJ60 ,  4F100EJ602 ,  4F100EJ61 ,  4F100EJ612 ,  4F100GB15 ,  4F100JD02 ,  4F100JD02B ,  4F100JD02C ,  4F100JD02D ,  4F100JK04 ,  4F100JK08 ,  4F100JK17 ,  4F100JL04 ,  4F100JL11 ,  4F100JM02B ,  4F100JM02C ,  4F100JM02D ,  4K030AA06 ,  4K030AA14 ,  4K030AA16 ,  4K030AA17 ,  4K030BA36 ,  4K030BA44 ,  4K030BB12 ,  4K030CA07 ,  4K030FA01 ,  4K030HA01 ,  4K030LA01 ,  4K030LA11 ,  4K030LA24
引用特許：
出願人引用 (11件)
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審査官引用 (6件)
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