電子ビーム描画装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-235146
公開番号（公開出願番号）：特開平9-153455
出願日： 1996年09月05日
公開日（公表日）： 1997年06月10日
要約：

【要約】【課題】大きく、像全体の電流密度分布が一様で、その電流密度強度が高く、且つ解像度の高いアパーチャ像を材料上に形成出来る電子ビーム描画装置を提供する事。【解決手段】電子銃1を成す複数の電界放出型電子発生源のチップ6から電子が放出される。各チップの電子放出部の像が集束レンズ8により投影レンズ13の前焦点位置に結ばれる。移動機構11により光軸上に所定のアパーチャが位置する。放出された電子は選択されたアパーチャを通過し、その断面形状が該アパーチャに対応したものになる。アパーチャの像が投影レンズ13により被描画材料上に結像される。同時に、投影レンズ13は該レンズの焦点位置に結像された電子放出部像からのビームを並行に前記被描画材料12上に照射する。

請求項（抜粋）：

複数の針状陰極を有する電界放出型電子発生源から成る電子銃と、前記電子銃から放出された電子ビームの断面形状を決定するビーム断面形状設定用アパーチャ板と、前記アパーチャ板のアパーチャの像を被描画材料上に結ぶ投影レンズと、前記電子銃と前記投影レンズの間に配置され、前記電子銃の電子放出部の像を前記投影レンズの前焦点位置に結ぶ集束レンズと、前記被描画材料上におけるアパーチャ像の結像位置を決める電子ビーム偏向器を備えた電子ビーム描画装置。

FI (2件)：

H01L 21/30 541 S , H01L 21/30 541 W

引用特許：

出願人引用 (8件)

電子ビーム描画装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-128738 出願人：株式会社日立製作所
電子線露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-297168 出願人：日本電気株式会社
特開昭61-263217

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審査官引用 (6件)

電子ビーム描画装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-128738 出願人：株式会社日立製作所
電子線露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-297168 出願人：日本電気株式会社
特開昭61-263217

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