処理装置用のチラー制御方法及びチラー制御装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：佐々木聖孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-332800
公開番号（公開出願番号）：特開2004-169933
出願日： 2002年11月15日
公開日（公表日）： 2004年06月17日
要約：

【課題】処理装置の稼動状況に応じてチラーの冷媒供給動作を適確に制御して処理システム内の効果的な省エネを実現すること。【解決手段】ホストコンピュータ16が各被処理基板Wについての工程シーケンス上のレシピ情報を先読みした結果、プラズマエッチング装置10が所定の閾値時間Ts以上の休止状態つまりアイドル状態になることを事前に検知したときは、ホストコンピュータ16からの連絡に応じてコントローラ14がチラーユニット12に昇エネモードを指示する信号を発信する。チラーユニット12では、エッチング装置10に供給する冷媒CW1の流量を通常モード用の第1の流量N1から昇エネモード用の第2の流量N2に抑制する。こうして、昇エネモード中は、チラーユニット12内の各部が低出力で動作し、ポンプ56,68およびインバータ58,66全体の消費電力は相当低いレベルに下がる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

被処理基板に所定の処理を施すための処理装置に対して温度制御用の冷媒を供給するチラーの制御方法であって、前記処理装置が前記処理のために通常に稼動している期間中は前記チラーより前記処理装置に対して前記冷媒を第1の流量で供給する第1の工程と、前記処理装置が所定の閾値時間以上のアイドル状態になることを工程シーケンス上のレシピ情報に基づいて検出する第2の工程と、前記処理装置が通常稼動状態から前記アイドル状態に切り換わった後に前記冷媒の流量を前記第1の流量からそれよりも小さな第2の流量に抑制する第3の工程と、前記処理装置が前記アイドル状態から通常稼動状態に切り換わる前に前記冷媒の流量を前記第2の流量から前記第1の流量に戻す第4の工程とを有する処理装置用のチラー制御方法。

IPC (2件)：

F25D17/02 , H01L21/3065

FI (2件)：

F25D17/02 303 , H01L21/302 101G

Fターム (7件)：

5F004BB25 , 5F004BC04 , 5F004BD03 , 5F004CA02 , 5F004CA08 , 5F004CB12 , 5F004EA30

引用特許：

審査官引用 (7件)

処理装置およびその温度制御方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-212048 出願人：東京エレクトロン株式会社
デバイス製造装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-036666 出願人：キヤノン株式会社
特開平1-268030

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