特許
J-GLOBAL ID：200903074280945250

高周波プロセッサ内のプラズマ不安定性を最小化するための方法および装置

発明者：
ブレット・シー・リチャードソン

ブレット・シー・リチャードソン について

, 
テュアン・ゴ

テュアン・ゴ について


出願人/特許権者：
ラム リサーチ コーポレーション

ラム リサーチ コーポレーション について


代理人 (1件)： 吉田 精孝
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-527961
公開番号（公開出願番号）：特表2002-501283
出願日： 1999年01月08日
公開日（公表日）： 2002年01月15日
要約：
【要約】【課題】真空プラズマ・プロセッサのプラズマを制御して均等な予測可能な工作物特性を達成できるようにするための新しい、改善された方法および装置を提供する。【解決手段】高周波電源と工作物を処理する真空プラズマ室のプラズマ負荷との間に接続された整合回路網の可変リアクタンスを変化させて、整合に近づきながら、工作物の処理に悪影響を及ぼし得るプラズマの不安定に変化する傾向を回避する。プラズマが不安定に変化する傾向は、回路網を介して電源と負荷との間を流れる高周波電流から生じる電気パラメータを監視することによって検出される。パラメータは、(1)統計に基づく例えば供給電力百分率の分散、または(2)2〜20kHzおよび50〜200kHzの範囲の一方または両方における振幅変調とすることができる。
請求項（抜粋）：
工作物を処理する真空プラズマ室内のプラズマに高周波電磁界を供給する方法であって、高周波電磁界を生成することができる高周波電源に整合回路網を介して接続されたリアクタンス性インピーダンス要素によって前記高周波電磁界がプラズマに供給され、前記高周波電磁界が、ガスをプラズマに発火させかつプラズマを維持するのに充分な周波数および電力レベルを有しており、前記整合回路網が第1および第2可変リアクタンスを含み、前記プラズマが工作物の処理に悪影響を及ぼし得る不安定に変化する傾向を持つ前記方法において、プラズマが不安定に変化しようとすることを検出すること、および前記検出ステップに応答して、工作物の処理に悪影響を及ぼし得るプラズマの不安定に変化する傾向が克服され、プラズマが安定に維持され、かつ電源と電源の出力端子から見たインピーダンスとの間に整合が達成されるように、前記整合回路網の前記リアクタンスの値を変化させることを備えた方法。
IPC (3件)：
H05H 1/46 ,  H01J 37/32 ,  H01L 21/3065
FI (4件)：
H05H 1/46 L ,  H05H 1/46 R ,  H01J 37/32 ,  H01L 21/302 B
Fターム (5件)：
5F004AA16 ,  5F004BA00 ,  5F004BB11 ,  5F004BC08 ,  5F004CB07
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (10件)
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