特許
J-GLOBAL ID：200903074713991588

プラズマ処理装置

発明者：
上原 剛

上原 剛 について

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大野 毅之

大野 毅之 について

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岩崎 政樹

岩崎 政樹 について

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日野 守

日野 守 について


出願人/特許権者：
積水化学工業株式会社

積水化学工業株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-124347
公開番号（公開出願番号）：特開2004-342320
出願日： 2003年04月28日
公開日（公表日）： 2004年12月02日
要約：
【課題】固体誘電体を、電極に安定設置でき、かつ電極とは別途に容易に交換できるプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】プラズマ処理装置には、第1電極11と別体でそれから分離可能な当接部材70が設けられている。当接部材70は、第1電極11の第2電極21との対向面に面する金属部72と、この金属部ひいては第1電極を覆う誘電体部73とを積層一体化させてなる。この当接部材70が、ボルト77(保持手段)によって第1電極11に引付けられている。ボルト77のためのボルト孔72aは、金属部72の中程まで形成されており、下面までは達していない。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
互いに対向する第1、第2電極のユニットと、 上記第1電極の第2電極との対向面に面する金属部と、この金属部ひいては第1電極を覆う誘電体部とを積層一体化させてなり、上記第1、第2電極ユニットから分離可能な当接部材と、 この当接部材を上記第1電極に当接させた状態で保持可能かつ保持解除可能な保持手段と を備えたことを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (6件)：
H05H1/24 ,  B01J19/08 ,  C23C16/44 ,  C23C16/515 ,  H01L21/304 ,  H01L21/3065
FI (6件)：
H05H1/24 ,  B01J19/08 E ,  C23C16/44 B ,  C23C16/515 ,  H01L21/304 645C ,  H01L21/302 101E
Fターム (29件)：
4G075AA24 ,  4G075AA30 ,  4G075BA05 ,  4G075BB10 ,  4G075BC04 ,  4G075BC06 ,  4G075BC10 ,  4G075CA16 ,  4G075CA47 ,  4G075DA02 ,  4G075EB01 ,  4G075EC21 ,  4G075EC26 ,  4G075FA05 ,  4G075FA12 ,  4G075FB02 ,  4G075FB12 ,  4G075FC15 ,  4G075FC17 ,  4K030FA01 ,  4K030JA09 ,  4K030KA14 ,  4K030KA45 ,  4K030KA46 ,  4K030KA47 ,  5F004AA14 ,  5F004BA20 ,  5F004BB30 ,  5F004BB32
引用特許：
審査官引用 (14件)
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