特許
J-GLOBAL ID：200903075025022357
ポジ型感放射線性組成物およびこれを用いたレジストパターンの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-243218
公開番号（公開出願番号）：特開2004-085657
出願日： 2002年08月23日
公開日（公表日）： 2004年03月18日
要約：
【課題】サブクォーターミクロンのパターン加工が可能な解像度を持ち、高感度なポジ型感放射線性組成物を得る。【解決手段】(a)α位に置換基を持つアクリレート単位またはα位に置換基を持つp-ヒドロキシスチレン単位を有し、酸の作用によりアルカリ可溶性となる重合体または(c)α位に置換基を持つアクリレート単位またはα位に置換基を持つp-ヒドロキシスチレン単位を有するアルカリ可溶性の重合体と、(d)(c)α位に置換基を持つアクリレート単位またはα位に置換基を持つp-ヒドロキシスチレン単位を有するアルカリ可溶性の重合体のアルカリ可溶性を抑制する効果を持ち、該抑制効果が酸の作用によって低下または消失する化合物、(b)特定の構造式で表されるイオン性酸発生剤を含有することを特徴とするポジ型感放射線性組成物およびこれを用いたレジストパターンの製造方法。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
(a)α位に置換基を持つアクリレート単位またはα位に置換基を持つp-ヒドロキシスチレン単位を有し、酸の作用によりアルカリ可溶性となる重合体、(b)下記一般式(1)および/または(2)で表されるイオン性酸発生剤を含有することを特徴とするポジ型感放射線性組成物。
IPC (3件)：
G03F7/039
, G03F7/004
, H01L21/027
G03F7/039 601
, G03F7/004 503A
, H01L21/30 502R
2H025AA01
, 2H025AA02
, 2H025AB16
, 2H025AC06
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE07
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025CB14
, 2H025CB16
, 2H025CB45
, 2H025FA17
