特許
J-GLOBAL ID:200903075427123060
チャンバ装置の運転方法、チャンバ装置、これを備えたワーク処理設備および有機EL装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
落合 稔
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-157659
公開番号(公開出願番号):特開2004-362854
出願日: 2003年06月03日
公開日(公表日): 2004年12月24日
要約:
【課題】チャンバルーム内を、安定且つ新鮮なドライエアーの雰囲気に維持することができるチャンバ装置を提供することを課題とする。【解決手段】チャンバルーム8と、チャンバルーム8内にドライエアーを給気する給気流路97と、給気流路97に介設したエアー開閉バルブ100と、チャンバルーム8内のドライエアーを排気する排気流路102と、排気流路102に介設したエアー調整ダンパー104と、チャンバルーム8内の水分濃度を検出する露点センサー126と、露点センサー126の検出結果に基づいて、チャンバルーム8内の水分濃度が一定になるようにエアー開閉バルブ100およびエアー調整ダンパー104を制御するコントローラ125と、備えたものである。【選択図】 図4
請求項(抜粋):
ワーク処理をドライエアーの雰囲気中で行うことを要するワーク処理装置を収容するチャンバ装置の運転方法であって、
チャンバルームに対するドライエアーの給気および排気を連続させて、前記チャンバルーム内の水分濃度を一定に維持することを特徴とするチャンバ装置の運転方法。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (4件):
3K007AB18
, 3K007DB03
, 3K007FA01
, 3K007FA03
引用特許:
審査官引用 (6件)
-
塗布装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-339157
出願人:カシオ計算機株式会社
-
搬送装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-311519
出願人:株式会社ニコン
-
レジスト塗布装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-317239
出願人:ソニー株式会社
-
基板処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-365656
出願人:大日本スクリーン製造株式会社
-
露光装置および露光方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-368441
出願人:株式会社ニコン
-
有機電界発光素子の製造装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-370744
出願人:株式会社美和製作所
全件表示
前のページに戻る