特許
J-GLOBAL ID:200903075532693743
露光方法及びこれを遂行するためのレチクル、レチクルアセンブリー及び露光装置
発明者:
,
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (5件):
八田 幹雄
, 奈良 泰男
, 齋藤 悦子
, 宇谷 勝幸
, 藤井 敏史
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-364127
公開番号(公開出願番号):特開2005-197678
出願日: 2004年12月16日
公開日(公表日): 2005年07月21日
要約:
【課題】露光工程の時間的な損失を減少するための露光方法を提供する。【解決手段】ウエハーW上の少なくとも一つのダイ領域を含む複数のショット領域に対する第1露光工程はレチクルRを通した照明光を用いて遂行され、ウエハーWのエッジ部位と隣接するダイ領域に対する2次露光工程はレチクルに隣接して配置される光透過部材102を通過した照明光によって遂行される。光透過部材は、照明光を通過させるための四角リボン形状の光透過領域を含み、ウエハーは、光透過領域を通過した照明光がウエハーのエッジ部位と隣接するダイ領域をスキャンするように移動する。第1露光工程から第2露光工程へ移行する際にレチクルRの交換が不要になる。【選択図】図1
請求項(抜粋):
イメージ情報を含む投影光でフォトレジスト膜が形成されたウエハー上に設定された少なくとも一つのダイ領域を含む複数のショット領域上にイメージを投影する段階と、
走査光で前記ウエハーのエッジ部位と隣接するダイ領域をスキャンする段階と、を含むことを特徴とする露光方法。
IPC (2件):
FI (2件):
H01L21/30 577
, G03F7/20 521
Fターム (3件):
5F046AA28
, 5F046CC14
, 5F046JA15
引用特許:
出願人引用 (2件)
-
米国特許第6、331、885号明細書
-
米国特許第6、538、719号明細書
審査官引用 (9件)
-
特開平3-237459
-
走査型露光装置および露光方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-210305
出願人:キヤノン株式会社
-
特開平1-261821
-
投影露光装置、投影露光方法及びデバイスの製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-103572
出願人:日本電気株式会社
-
露光装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-140840
出願人:株式会社ニコン
-
半導体製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-132555
出願人:インフィニオンテクノロジーズノースアメリカコーポレイション, インターナショナルビジネスマシーンズコーポレーション
-
半導体装置の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-136984
出願人:関西日本電気株式会社
-
半導体デバイス用マスク、および露光方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-322934
出願人:川崎マイクロエレクトロニクス株式会社
-
半導体装置の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-287483
出願人:富士通株式会社
全件表示
前のページに戻る