特許
J-GLOBAL ID：200903075626141434

被覆超硬エンドミル

発明者：
石川 剛史

石川 剛史 について


出願人/特許権者：
日立ツール株式会社

日立ツール株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-104854
公開番号（公開出願番号）：特開2004-306216
出願日： 2003年04月09日
公開日（公表日）： 2004年11月04日
要約：
【課題】(AlCr)N系皮膜の欠点である硬度を高めることにより耐摩耗性を著しく改善し、その結果優れた工具寿命を発揮する被覆超硬エンドミルを提供することを目的とする。【解決手段】被覆超硬エンドミルにおいて、該被覆はアーク放電式イオンプレーティング法により被覆された硬質皮膜であり、該硬質皮膜は、(AlxCr1-x-ySiy)(N1-α-β-γBαCβOγ)、但し、x、y、α、β、γは夫々原子比率を示し、0.45<x<0.85、0≦y<0.35、0.50≦x+y<1.0、0≦α<0.15、0≦β<0.65、0<γ<0.65、0<α+β+γ≦1.0、少なくとも1層以上からなり、(200)面に回折強度を有し、その半価幅が0.5度以上、2.0度以下、X線光電子分光分析における525eVから535eVの範囲に、少なくともAl、Cr及び/又はSiと酸素との結合エネルギーを有する超硬エンドミルである。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
被覆超硬エンドミルにおいて、該被覆はアーク放電式イオンプレーティング法により被覆された硬質皮膜であり、該硬質皮膜は、(AlxCr1-x-ySiy)(N1-α-β-γBαCβOγ)、但し、x、y、α、β、γは夫々原子比率を示し、0.45<x<0.85、0≦y<0.35、0.50≦x+y<1.0、0≦α<0.15、0≦β<0.65、0<γ<0.65、0<α+β+γ≦1.0で示される少なくとも1層以上からなり、θ-2θ法によるX線回折において測定される岩塩構造型の(200)面に回折強度を有し、その回折ピークの半価幅が、0.5度以上、2.0度以下であり、X線光電子分光分析における525eVから535eVの範囲に、少なくともAl、Cr及び/又はSiと酸素との結合エネルギーを有し、該超硬エンドミルの被覆基体はCo含有量が重量%で2.0<Co<14.0であり、更にCr、Ta、Ti、Zrから選択される1種以上の金属、炭化物、窒化物、酸化物もしくはその組み合わせから選択される金属及び/又は化合物を少なくとも1種以上含有することを特徴とする被覆超硬エンドミル。
IPC (4件)：
B23C5/16 ,  B23P15/28 ,  C23C14/06 ,  C23C14/08
FI (5件)：
B23C5/16 ,  B23P15/28 A ,  C23C14/06 A ,  C23C14/06 L ,  C23C14/08 K
Fターム (9件)：
4K029BA23 ,  4K029BA43 ,  4K029BA55 ,  4K029BA58 ,  4K029BA64 ,  4K029BC02 ,  4K029BD05 ,  4K029CA03 ,  4K029DD06
引用特許：
審査官引用 (25件)
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