特許
J-GLOBAL ID：200903075828264287
ガスハイドレート生成装置
発明者：
,
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
小川 信一
, 野口 賢照
, 斎下 和彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-311472
公開番号（公開出願番号）：特開2006-124431
出願日： 2004年10月26日
公開日（公表日）： 2006年05月18日
要約：
【課題】原料ガスと水を反応させて生成したガスハイドレートを脱水しながら生成容器外に円滑に払い出す。【解決手段】耐圧容器2内で原料ガスgと水wとを反応させてガスハイドレートnを生成するガスハイドレート生成装置である。前記耐圧容器2内に当該耐圧容器2の内壁面に沿うようにリボン状の掻上げ羽根4をらせん状に設けたガスハイドレート掻上げ手段3を回転自在に設ける。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
耐圧容器内で原料ガスと水とを反応させてガスハイドレートを生成するガスハイドレート生成装置において、前記耐圧容器内に当該耐圧容器の内壁面に沿うようにリボン状の掻上げ羽根をらせん状に設けたガスハイドレート掻上げ手段を回転自在に設けることを特徴とするガスハイドレート生成装置。
IPC (5件)：
C10L 3/06
, C07B 63/02
, C07C 5/00
, C07C 7/20
, C07C 9/02
C10L3/00 A
, C07B63/02 B
, C07C5/00
, C07C7/20
, C07C9/02
4H006AA04
, 4H006AC93
, 4H006BD81
出願人引用 (1件)
審査官引用 (8件)
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