特許
J-GLOBAL ID：200903077110425471

フォトレジストおよび有機物質を基体表面から取り除くための組成物

発明者：
オーバーランダー・ジョーゼフ・イー

オーバーランダー・ジョーゼフ・イー について

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スレザック・マーク・エス

スレザック・マーク・エス について

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カンナ・ディネッシュ・エヌ

カンナ・ディネッシュ・エヌ について

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ダラム・デイナ・エル

ダラム・デイナ・エル について

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スピニチェリ・ローレンス

スピニチェリ・ローレンス について


出願人/特許権者：
クラリアント・インターナシヨナル・リミテッド

クラリアント・インターナシヨナル・リミテッド について


代理人 (1件)： 江崎 光史 (外3名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-559485
公開番号（公開出願番号）：特表2002-520659
出願日： 1999年06月30日
公開日（公表日）： 2002年07月09日
要約：
【要約】本発明は、集積回路等の様なマイクロエレクトロニクス、および特に集積回路の製造で使用される基体の表面からフォトレジストまたは他の有機物質を除く組成物および除く方法に関する。特に本発明は、下にある基体を腐蝕させることなしに有機物質を効果的に除くことができる、溶剤および界面活性剤を含有するアミン不含ストリッピング剤、並びにこの新規のストリッピング剤を用いてこれらの有機物質を除く方法にも関する。
請求項（抜粋）：
集積回路を造る際に使用される被覆された基体から有機残留物を除くのに特に有用なアミン不含ストリッピング剤組成物において、水混和性有機溶剤と界面活性剤との混合物を含有することを特徴とする上記ストリッピング剤組成物。
IPC (2件)：
G03F 7/42 ,  H01L 21/304 647
FI (2件)：
G03F 7/42 ,  H01L 21/304 647 A
Fターム (3件)：
2H096AA25 ,  2H096BA10 ,  2H096LA03
引用特許：
審査官引用 (16件)
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