特許
J-GLOBAL ID:200903077317825615
荷電粒子ビーム装置のガス吹き付けノズル及び荷電粒子ビーム装置並びに加工方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
松下 義治
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-023022
公開番号(公開出願番号):特開2005-251737
出願日: 2005年01月31日
公開日(公表日): 2005年09月15日
要約:
【課題】 ビームアシストデポジション、あるいはビームアシストエッチングを行う際に、試料ステージの駆動に影響を及ぼすことなしに、ガス濃度のピーク位置にビーム照射を可能としてその加工の対称性を確保すること。【解決手段】 ビームアシストデポジション、あるいはビームアシストエッチングの際に使用するガス銃のノズル先端部におけるビームIBが飛来する側に溝状の切り欠き構造Sを設けたことにより、当該切り欠き構造S中をビームIBが通過できるようにしたガス吹き付けノズル11及び該ガス吹き付けノズル11を有する荷電粒子ビーム装置並びに加工方法を提供する。【選択図】 図2
請求項(抜粋):
ビームアシストデポジション、あるいはビームアシストエッチングの際に使用するガス銃のノズル先端部におけるビームが飛来する側に切り欠き構造を設けたことにより、当該切り欠き構造中をビームが通過できるようにしたことを特徴とする荷電粒子ビーム装置のガス吹き付けノズル。
IPC (2件):
FI (2件):
H01J37/305 A
, H01J37/317 D
Fターム (3件):
5C034BB06
, 5C034BB09
, 5C034DD09
引用特許:
出願人引用 (2件)
審査官引用 (6件)
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特開平4-249843
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粒子線加工用のガス送出システム
公報種別:公表公報
出願番号:特願平10-502987
出願人:マイクリオンコーポレーション
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ビーム誘起プロセス装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-246177
出願人:株式会社日立製作所
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走査電子顕微鏡
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-101652
出願人:株式会社日立製作所
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集束ビーム装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-146006
出願人:株式会社日立製作所
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薄膜形成装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-206636
出願人:株式会社東芝
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