磁気ディスク基板研磨用組成物

発明者： , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：菊地精一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-013858
公開番号（公開出願番号）：特開2001-207161
出願日： 2000年01月24日
公開日（公表日）： 2001年07月31日
要約：

【要約】【課題】磁気ディスクの表面粗さが小さく、かつ突起や研磨傷を発生させず、高密度記録が達成可能であり、しかも経済的な速度で研磨できる磁気ディスク基板の研磨用組成物を提供すること。【解決手段】水、酸化ケイ素、ゲル化防止剤、硝酸アルミニウム及び過酸化水素からなる磁気ディスク基板研磨用組成物。

請求項（抜粋）：

水、酸化ケイ素、ゲル化防止剤、硝酸アルミニウム及び過酸化水素からなる磁気ディスク基板研磨用組成物。

IPC (4件)：

C09K 3/14 550 , C09K 3/14 , B24B 37/00 , G11B 5/84

FI (4件)：

C09K 3/14 550 Z , C09K 3/14 550 D , B24B 37/00 H , G11B 5/84 A

Fターム (10件)：

3C058CB01 , 3C058CB02 , 3C058CB03 , 3C058CB10 , 3C058DA02 , 5D112AA02 , 5D112BA06 , 5D112GA09 , 5D112GA14 , 5D112GA30

引用特許：

審査官引用 (6件)

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