液晶パネル用基板の洗浄方法

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出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：大谷保
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-344652
公開番号（公開出願番号）：特開2000-171985
出願日： 1998年12月03日
公開日（公表日）： 2000年06月23日
要約：

【要約】【課題】液晶パネル用基板を効率よく洗浄する方法を提供すること。【解決手段】ガラス基板上に導電薄膜を形成し、次いで該導電薄膜上に所定のパターンをレジストで形成し、これをエッチングレジストとして前記導電薄膜の不要部分をドライエッチング除去し、さらに必要に応じて灰化処理を行い、しかる後にドライエッチング時に発生した導電薄膜に由来する残渣物を、酸化剤とキレート剤とからなる洗浄剤で除去して液晶パネル用基板を洗浄する方法である。

請求項（抜粋）：

ガラス基板上に導電薄膜を形成し、次いで該導電薄膜上に所定のパターンをレジストで形成し、これをエッチングレジストとして前記導電薄膜の不要部分をドライエッチング除去し、しかる後にドライエッチング時に発生した導電薄膜に由来する残渣物を、酸化剤とキレート剤とからなる洗浄剤により除去することを特徴とする液晶パネル用基板の洗浄方法。

IPC (2件)：

G03F 7/40 521 , G03F 7/42

FI (2件)：

G03F 7/40 521 , G03F 7/42

Fターム (6件)：

2H096AA27 , 2H096CA01 , 2H096CA05 , 2H096CA20 , 2H096HA23 , 2H096HA30

引用特許：

審査官引用 (7件)

新規な表面処理方法及び処理剤
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-027496 出願人：和光純薬工業株式会社
表面処理組成物及び表面処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-056087 出願人：三菱化学株式会社
基体の表面処理方法及びそれに用いる有機錯化剤含有アンモニア水溶液
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-167183 出願人：三菱化学株式会社

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