多世代マスクによる描画方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小田治親
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-329972
公開番号（公開出願番号）：特開2002-202590
出願日： 2001年09月21日
公開日（公表日）： 2002年07月19日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】ターゲット基板上に複数の同一ターゲット構造を描画パターン形成するため、それぞれが1つ以上の円形構造要素のセットからなる複数個の同一テンプレート構造で構成されるテンプレート構造パターンを有するテンプレートマスクを製造する。【解決手段】1つ以上の円形構造要素からなる第1次構造パターンを有する第1次マスク基板11から始め、1つ以上の描画マスク製作ステップ(b,c)によりテンプレートマスクの製造を行い、エネルギ放射の幅広のイオンビーム31によるそれぞれのマスク製作ステップの中で、マスクが照射されて、マスク基板11,12上の構造パターンが中間基板11a,12aに描画される。この最終的な描画パターンのテンプレートマスク13により、ターゲット基板14がパターン形成され、このようにして作製されたパターン像は複数の同一のターゲット構造24を有して構成される。

請求項（抜粋）：

ターゲット基板上への複数個の同一構造の描画パターン形成方法であって、複数個の同一テンプレート構造で構成され、それぞれが1つ以上の円形構造要素のセットからなるテンプレート構造パターンを有するテンプレートマスクを用いて、ターゲット基板に描画パターンを形成するために使われるもので、幅広のエネルギ放射を用いて、テンプレートマスクを照射して照射用ビームを作成し、ターゲット基板を、ビームの光路内となるようにマスクの後に配置すると共に、前記エネルギ放射の露光のための感光材料で構成し、前記照射用ビームを用いてテンプレート構造パターンをターゲット基板にイメージ製造してターゲット基板にパターン像を製造してなり、これにより、パターン像が複数個の同一構造のターゲット構造として製造されることを特徴とする描画パターン形成方法。

IPC (5件)：

G03F 1/16 , G03F 7/20 504 , G03F 7/20 506 , G03F 7/22 , H01L 21/027

FI (5件)：

G03F 1/16 B , G03F 7/20 504 , G03F 7/20 506 , G03F 7/22 Z , H01L 21/30 541 S

Fターム (17件)：

2H095BB01 , 2H095BB02 , 2H095BB09 , 2H095BB10 , 2H095BB36 , 2H097AA03 , 2H097AA20 , 2H097AB01 , 2H097BB01 , 2H097CA11 , 2H097CA16 , 2H097GB00 , 2H097JA02 , 5F056AA06 , 5F056AA22 , 5F056EA04 , 5F056FA05

引用特許：

審査官引用 (10件)

荷電ビーム描画装置用アパチャおよびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-234517 出願人：日本電気株式会社
転写マスクおよび電子線描画装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-013428 出願人：株式会社日立製作所
荷電粒子ビーム露光装置及びそこで使用するブランキング・アパーチャ・アレイ
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-335888 出願人：株式会社アドバンテスト

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