特許
J-GLOBAL ID:200903079184269539
蒸着方法および蒸着装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
小野寺 洋二
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-183242
公開番号(公開出願番号):特開2009-019243
出願日: 2007年07月12日
公開日(公表日): 2009年01月29日
要約:
【課題】連続的に生産しても蒸着ずれが小さく、画素内の膜厚分布が良好かつ材料の無駄の少ない真空蒸着方法及び蒸着装置を提供する。【解決手段】真空チャンバ1内に蒸着源ユニット100を固定し、蒸着源の蒸気3を横切るように基板4を移動させる間に、該基板4の所定個所に蒸着源の蒸気3を蒸着する。基板4の蒸着源ユニット100側に蒸着マスク5を設置し、真空チャンバ1内には複数のローラ13によるマスクフレーム7の移動手段を有し、マスクフレーム7の蒸着源ユニット100側の面に対して非接触かつ近接して設けた冷却手段を持つ冷却板11を該マスクフレーム7が移動する軌道上に設ける。冷却板11には蒸着源ユニット100の近傍に部分的に開口部60を設け、蒸着源ユニット100の冷却プレート14の開口部70を通して蒸着源2で発生した蒸気3を蒸着マスク5及び基板4に吹き付ける。【選択図】図1
請求項(抜粋):
真空雰囲気を保持した容器内に設置した蒸着源ユニット内に蒸着源となる材料を固定し、該蒸着源ユニットの蒸気噴出口から噴出する蒸気を横切って蒸着対象の基板を移動させている間に該基板の所定個所に前記材料を蒸着する方法であって、
前記基板に対して、前記材料を蒸着する個所に対応した孔が開いたシートと該シートを平面に保持するマスクフレームを備えた蒸着マスクを密着させて設置し、
前記真空雰囲気を保持する容器に設けた複数のローラを有する移動手段で前記マスクフレームを移動し、
前記マスクフレームが移動する軌道上で、前記マスクフレームの前記蒸着源側の面に対して非接触かつ近接して設けた冷却手段を持ち、前記蒸着源の近傍に部分的に開口部を有する冷却プレートの該開口部を通じて前記蒸着源ユニットの上記蒸気噴出口から噴出した前記材料の蒸気を前記蒸着マスク及び前記基板に吹き付けることを特徴とする蒸着方法。
IPC (5件):
C23C 14/04
, H05B 33/10
, H01L 51/50
, C23C 14/54
, C23C 14/50
FI (5件):
C23C14/04 A
, H05B33/10
, H05B33/14 A
, C23C14/54 G
, C23C14/50 F
Fターム (16件):
3K107AA01
, 3K107BB01
, 3K107GG04
, 3K107GG28
, 3K107GG33
, 3K107GG34
, 4K029AA09
, 4K029AA24
, 4K029BA62
, 4K029BC07
, 4K029DA10
, 4K029DA12
, 4K029DB06
, 4K029HA01
, 4K029HA03
, 4K029KA03
引用特許:
出願人引用 (3件)
審査官引用 (8件)
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