特許
J-GLOBAL ID：200903079214974259
液晶式フォトマスク、それを用いたパターン露光方法、パターン露光装置及びDNAチップの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
平山 一幸
, 海津 保三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-247803
公開番号（公開出願番号）：特開2004-085955
出願日： 2002年08月27日
公開日（公表日）： 2004年03月18日
要約：
【課題】液晶式フォトマスク、それを用いたパターン露光方法、パターン露光装置及びDNAチップの製造方法を提供する。【解決手段】照明光を照射する照明光学系21と、照明光学系からの照明光の光路中に配置されたフォトマスク10から成る露光制御系30と、露光制御系のフォトマスクを通過した照明光が照射されるように、表面に感光体薄膜を塗布した基板42を保持する露光光学系40とを含むパターン露光装置20において、フォトマスクが、マトリックス式液晶素子11,種々のマスクパターンを電子式のパターンデータとして記憶する記憶部,記憶部から読み出したパターンデータに基づいてマトリックス式液晶素子を駆動制御する制御部から成る液晶式フォトマスク10であるように、パターン露光装置20を構成する。【選択図】 図4
請求項（抜粋）：
マトリックス式液晶素子と、種々のマスクパターンを電子式のパターンデータとして記憶する記憶部と、記憶部から読み出したパターンデータに基づいてマトリックス式液晶素子を駆動制御する制御部と、を含んでいることを特徴とする、液晶式フォトマスク。
IPC (5件)：
G03F1/08
, C12N15/09
, G02F1/13
, G02F1/1335
, G03F7/20
G03F1/08 G
, G02F1/13 505
, G02F1/1335
, G03F7/20 521
, C12N15/00 F
2H088EA40
, 2H088HA07
, 2H088HA08
, 2H088HA25
, 2H091FA29
, 2H091GA12
, 2H091MA10
, 2H095BB01
, 2H095BB27
, 2H095BB36
, 2H095BC04
, 4B024AA11
, 4B024CA04
, 4B024CA05
, 4B024CA06
, 4B024CA09
, 4B024CA10
, 4B024HA08
, 4B024HA12
, 4B024HA19
