特許
J-GLOBAL ID:200903079477380779
電気光学装置、液晶表示装置及びそれらの製造方法
発明者:
,
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出願人/特許権者:
代理人 (3件):
吉田 茂明
, 吉竹 英俊
, 有田 貴弘
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-310677
公開番号(公開出願番号):特開2006-126255
出願日: 2004年10月26日
公開日(公表日): 2006年05月18日
要約:
【課題】電気光学装置において、層間絶縁膜のピンホールや欠陥に起因する電極間の短絡不良を防ぐ。【解決手段】ゲート電極2、保持容量共通電極3、ゲート配線4、ゲート端子5、ソース電極9、ドレイン電極10、ソース配線11及びソース端子12といった第1の電極と、画素電極22、ゲート端子パッド23及びソース端子パッド24といった第2の電極とを絶縁する層間絶縁膜14,18を、少なくとも二層以上で形成するとともに、この層間絶縁膜14,18に形成されるコンタクトホールを少なくとも二回以上の工程によって形成する。層間絶縁膜14,18にピンホールや欠損が発生しても、コンタクトホール以外での電極間の短絡不良を防止でき、歩留りを向上できる。【選択図】図1
請求項(抜粋):
下層にある少なくとも1種類以上の薄膜状の第1の電極と、前記第1の電極上に形成されてコンタクトホールが形成された絶縁膜と、前記コンタクトホールが設けられた前記絶縁膜上に薄膜状に形成されて少なくとも1種類以上の第2の電極とを備え、前記第2の電極の少なくとも一部が前記コンタクトホールを介して前記下層にある少なくとも1種類以上の前記第1の電極と電気的に接続される構造を少なくとも有する電気光学装置を製造する電気光学装置の製造方法であって、
前記絶縁膜を少なくとも二層以上で形成するとともに、前記絶縁膜に形成される前記コンタクトホールを少なくとも二回以上の工程によって形成することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
IPC (6件):
G02F 1/136
, G09F 9/00
, H01L 29/786
, H01L 21/336
, H01L 21/768
, H01L 23/522
FI (7件):
G02F1/1368
, G09F9/00 338
, G09F9/00 342Z
, H01L29/78 619A
, H01L29/78 612D
, H01L21/90 A
, H01L21/90 M
Fターム (76件):
2H092GA29
, 2H092HA04
, 2H092JA24
, 2H092JA46
, 2H092JA47
, 2H092JB57
, 2H092KA05
, 2H092KA18
, 2H092KB04
, 2H092KB25
, 2H092MA05
, 2H092MA15
, 2H092MA19
, 2H092NA01
, 2H092NA27
, 2H092NA28
, 2H092NA29
, 5F033GG04
, 5F033HH38
, 5F033JJ38
, 5F033KK08
, 5F033KK10
, 5F033KK20
, 5F033PP15
, 5F033QQ11
, 5F033QQ37
, 5F033RR06
, 5F033SS11
, 5F033TT02
, 5F033VV15
, 5F033WW04
, 5F033XX31
, 5F110AA26
, 5F110BB01
, 5F110CC07
, 5F110DD02
, 5F110EE03
, 5F110EE04
, 5F110EE06
, 5F110EE14
, 5F110EE44
, 5F110FF03
, 5F110FF29
, 5F110GG02
, 5F110GG15
, 5F110GG24
, 5F110GG44
, 5F110HK03
, 5F110HK06
, 5F110HK09
, 5F110HK16
, 5F110HK21
, 5F110HK25
, 5F110HK33
, 5F110HK34
, 5F110HL07
, 5F110HL14
, 5F110HL23
, 5F110HM18
, 5F110NN03
, 5F110NN04
, 5F110NN23
, 5F110NN24
, 5F110NN27
, 5F110NN33
, 5F110NN35
, 5F110NN71
, 5F110NN72
, 5F110NN73
, 5G435AA14
, 5G435AA17
, 5G435BB12
, 5G435CC09
, 5G435HH12
, 5G435HH14
, 5G435KK05
引用特許:
出願人引用 (3件)
審査官引用 (6件)
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