特許
J-GLOBAL ID：200903079909400407
高酸素水製造装置及び底質の浄化方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
山口 朔生
, 河西 祐一
, 横山 正治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-192499
公開番号（公開出願番号）：特開2004-033861
出願日： 2002年07月01日
公開日（公表日）： 2004年02月05日
要約：
【課題】飽和濃度以上の高酸素水をつくりだす高酸素水製造装置を提供し、広い水域を浄化することを可能にした底質の浄化方法を提供することを目的とする。【解決手段】水や貧酸素水71を収容する加圧タンク10と、前記加圧タンク10を加圧するコンプレッサ20と、前記加圧タンク内に回転自在に設けた攪拌翼30と、からなり、前記コンプレッサ20で加圧しながら、攪拌翼30を回転して加圧タンク10内の空気を水や貧酸素水71に溶存させて高酸素水80を製造する。また、貧酸素水71を連続して揚水し、管路の中間に高酸素水製造装置1を配置し、製造した高酸素水80を連続的に貧酸素水域70へ放水する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
水を収容する加圧タンクと、
前記加圧タンクを加圧するコンプレッサと、
前記加圧タンク内に回転自在に設けた攪拌翼と、からなり、
前記コンプレッサで加圧しながら、攪拌翼を回転して加圧タンク内の空気を水に溶存させて高酸素水を製造することを特徴とする、
高酸素水製造装置。
IPC (6件)：
B01F1/00
, B01F7/16
, B01F13/06
, B01F15/02
, C02F3/26
, C02F7/00
B01F1/00 A
, B01F7/16 Z
, B01F13/06
, B01F15/02 A
, C02F3/26
, C02F7/00
4D029BB11
, 4D029CC08
, 4G035AA01
, 4G035AB24
, 4G035AE01
, 4G035AE13
, 4G036AC38
, 4G037AA01
, 4G037AA18
, 4G037EA04
, 4G078AA30
, 4G078AB20
, 4G078BA05
, 4G078CA01
, 4G078CA05
, 4G078CA12
, 4G078CA17
, 4G078DA00
, 4G078EA01
, 4G078EA10
審査官引用 (22件)
-
ガス溶解装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願2000-171611
出願人：横河電機株式会社
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加圧式酸素溶解方法
公報種別：公開公報
出願番号：特願平10-026565
出願人：株式会社山広, 澤田善行
-
高速オゾン反応システム
公報種別：公開公報
出願番号：特願平9-035007
出願人：株式会社東芝
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引用文献：
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