特許
J-GLOBAL ID：200903080417994822
計測システムクラスター
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：
山崎 行造
, 岩橋 赳夫
, 杉山 直人
, 白銀 博
, 星 貴子
, 赤松 利昭
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-585932
公開番号（公開出願番号）：特表2004-535666
出願日： 2002年04月24日
公開日（公表日）： 2004年11月25日
要約：
製造プロセス(80,100,200)において、1以上の複数の計測システム(10,12,14,58,60,62,71,72,73)を用いて半導体ウエハー(4,54,75,110)を計測するシステムと方法が開示されている。計測システムクラスター(2,70,112,114,116,150,202,230,240)は、1以上の計測システム選択基準に従い、ウエハー(4,54,75,110)を1以上の計測システム(10,12,14,58,60,62,71,72,73)に移送させるためのシステム(20,74,254)に沿って、このような複数の計測システム(10,12,14,58,60,62,71,72,73)を有している。使用する計測システム(10,12,14,58,60,62,71,72,73)は、ウエハー(4,54,75,110)に関連するプロセス値を計測するために要求される、必要精度と能力を満たした状態で、システム全体としての処理量と効率が改善されるように、使用可能性情報(271,272,273)と処理量情報(281,282,283)に基づいて選択される。
請求項（抜粋）：
半導体機器製造プロセス(80,100,200)においてウエハー(4,54,75,110)のプロセス値を計測するための計測システムクラスター(2,70,112,114,116,150,202,230,240)であって、
第1と第2の計測計器(71,72,73,210,212,214)を有し、第1と第2の計測計器のおのおのが、ウエハー(4,54,75,110)に関連する少なくとも1つのプロセス値を計測する、第1と第2の計測システム(10,12,14,58,60,62,71,72,73)と、
製造プロセス(80,100,200)において加工されたウエハー(4,54,75,110)を受け取り、プロセス値を計測するための計測システム選択基準に従い、第1と第2の計測システム(10,12,14,58,60,62,71,72,73)のうちの少なくとも1つを選択して、ウエハー(4,54,75,110)を供給する、ウエハー移送システム(20,74,254)と、
を具備する計測システムクラスター(2,70,112,114,116,150,202,230,240)。
IPC (4件)：
H01L21/02
, G01N21/00
, G01N21/956
, H01L21/66
H01L21/02 Z
, G01N21/00 B
, G01N21/956 A
, H01L21/66 Z
2G051AA51
, 2G051AA56
, 2G051AB11
, 2G051CB05
, 2G051EA11
, 2G051EA12
, 2G051EA14
, 2G051EA19
, 2G059AA05
, 2G059BB15
, 2G059EE02
, 2G059FF01
, 2G059MM09
, 2G059MM10
, 2G059MM14
, 2G059PP01
, 4M106AA01
, 4M106BA02
, 4M106CA38
, 4M106DB05
, 4M106DJ27
, 4M106DJ28
, 4M106DJ38
