特許
J-GLOBAL ID:200903081838239310

増幅装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 藤巻 正憲
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-012537
公開番号(公開出願番号):特開2000-216307
出願日: 1999年01月20日
公開日(公表日): 2000年08月04日
要約:
【要約】【課題】 熱暴走を防止することができ、良好な高周波特性を得ることができる増幅装置を提供する。【解決手段】 多層基板1には、レジスト層2及びこのレジスト層2上に形成された厚さが約70〜100μmの第4導体層3dが設けられている。更に、第4導体層3d上には樹脂製の第3誘電体層4cが積層されている。第1導体層3a上には、半導体チップ11が、直接又は銅合金等の金属板からなるマウント部8を介して、載置されている。また、多層基板1には、半導体チップ11の直下に形成され第1導体層3aから第4導体層3dまで達するサーマルビア5が形成されている。更に、多層基板1の端面には、サーマルビア5の金属メッキ層5bに接続された接地・放熱用端面電極6が形成されている。
請求項(抜粋):
多層基板と、この多層基板上に設けられ増幅回路を備えた半導体チップと、を有する高周波増幅装置において、前記多層基板は、厚さが70μm以上の導体層と、この導体層上に形成された樹脂層と、前記半導体チップの直下で表面から前記導体層まで達するサーマルビアと、端面に形成され前記導体層に接続された接地・放熱用端面電極と、を有することを特徴とする増幅装置。
IPC (2件):
H01L 23/36 ,  H01L 23/12 301
FI (2件):
H01L 23/36 C ,  H01L 23/12 301 J
Fターム (3件):
5F036AA01 ,  5F036BB08 ,  5F036BB21
引用特許:
審査官引用 (7件)
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