特許
J-GLOBAL ID:200903082087992553

光学フイルムの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 柳川 泰男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-159436
公開番号(公開出願番号):特開2005-338597
出願日: 2004年05月28日
公開日(公表日): 2005年12月08日
要約:
【課題】 配向膜を使用せずに、シュリーレン欠陥の少ないハイブリッド配向の液晶化合物層を製造する。【解決手段】 支持体の上に液晶化合物を塗布し、空気側界面と支持体側界面とを有する液晶化合物層を形成する工程、そして、液晶化合物層の形成と同時または形成後に、液晶化合物層に磁場を印加し、液晶化合物層の空気側界面における液晶化合物の平均チルト角が、液晶化合物層の支持体側界面における液晶化合物の平均チルト角よりも大きく、それらの差が10度以上となるように液晶化合物をハイブリッド配向させる工程により光学フイルムを製造する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
支持体の上に液晶化合物を塗布し、空気側界面と支持体側界面とを有する液晶化合物層を形成する工程、そして、液晶化合物層の形成と同時または形成後に、液晶化合物層に磁場を印加し、液晶化合物層の空気側界面における液晶化合物の平均チルト角が、液晶化合物層の支持体側界面における液晶化合物の平均チルト角よりも大きく、それらの差が10度以上となるように液晶化合物をハイブリッド配向させる工程からなる光学フイルムの製造方法。
IPC (2件):
G02B5/30 ,  G02F1/13363
FI (2件):
G02B5/30 ,  G02F1/13363
Fターム (17件):
2H049BA02 ,  2H049BA06 ,  2H049BA42 ,  2H049BB03 ,  2H049BB49 ,  2H049BC06 ,  2H049BC22 ,  2H091FA11X ,  2H091FA11Z ,  2H091FB02 ,  2H091FC12 ,  2H091FC22 ,  2H091FC23 ,  2H091FD10 ,  2H091FD15 ,  2H091HA06 ,  2H091LA30
引用特許:
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (5件)
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