特許
J-GLOBAL ID：200903082318167852
リソグラフィプロセスのフォーカス露光モデルを作成するためのシステムおよび方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
稲葉 良幸
, 大賀 眞司
, 大貫 敏史
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-526083
公開番号（公開出願番号）：特表2009-505400
出願日： 2006年08月02日
公開日（公表日）： 2009年02月05日
要約：
リソグラフィプロセスのフォーカス露光モデルを作成するためのシステムおよび方法が開示される。システムおよび方法は、特に露光デフォーカスプロセスウィンドウ空間内で、パラメータ変動の複数の次元に沿ってキャリブレーションデータを使用する。システムおよび方法は、公称プロセス条件でのシミュレーションのよりよい精度および堅固性、ならびに、異なる設定での再キャリブレーションの必要なく、完全なプロセスウィンドウ領域全体に連続的にわたるいずれかの点でリソグラフィの性能を予測する能力を結果としてもたらす、統合された1組のモデルパラメータ値を提供する。従来技法の複数モデルキャリブレーションよりも少ない必要とされる測定値数で、フォーカス露光モデルは、プロセスウィンドウ内のいかなる位置でも使用することができる、より予測的でありより堅固なモデルパラメータ値を提供する。
請求項（抜粋）：
リソグラフィプロセスのフォーカス露光モデルを作成するための方法であって、
リソグラフィプロセスのモデルを選択することであって、前記モデルが、光学モデルモジュールを含み、前記モデルが、フォーカスと、露光と、可変値を有する1組のフィッティングパラメータとを含む1組のモデルパラメータを有する、該選択すること、
フォーカス露光空間内で前記リソグラフィプロセスのためのプロセスウィンドウを定義すること、
前記モデルに対する1組の初期フィッティングパラメータ値を選択すること、
前記プロセスウィンドウ内の複数のサンプリング位置を選択することであって、前記複数のサンプリング位置が、公称条件を含み、かつ前記プロセスウィンドウ内の考えられるすべてのプロセス条件の部分集合である、該選択すること、
前記初期フィッティングパラメータ値を一定に保ちながら、前記プロセスウィンドウ内の前記複数のサンプリング位置に対応するフォーカスおよび露光の変更値を用いて前記リソグラフィプロセスをシミュレーションすることによって、前記1組の初期フィッティングパラメータ値を有する前記モデルを使用して、前記プロセスウィンドウ内の前記複数のサンプリング位置のそれぞれでの前記リソグラフィプロセスのシミュレーション結果を生成すること、
前記プロセスウィンドウ内の前記複数のサンプリング位置のそれぞれで前記シミュレーション結果を前記リソグラフィプロセスの実結果と比較して、前記複数のサンプリング位置のすべてでの前記シミュレーション結果と前記実結果の間の合計差分測定値を作成すること、
前記プロセスウィンドウ内の前記複数のサンプリング位置のそれぞれで前記1組のフィッティングパラメータ値を修正し、追加のシミュレーション結果を生成して、前記実結果と最適フィッティングパラメータ値を使用して作成されたシミュレーション結果との間の前記合計差分測定値が最小化される、または所定の閾値未満となるような前記最適フィッティングパラメータ値を識別すること、および
前記フォーカス露光モデルを前記最適フィッティングパラメータ値を含むモデルとして定義することであって、前記フォーカス露光モデルが、全プロセスウィンドウ内のいずれの位置でも前記リソグラフィプロセスをシミュレーションすることが可能である、該定義すること
を含む、方法。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L21/30 516Z
, G03F1/08 A
, H01L21/30 526
2H095AC07
, 2H095BB02
, 5F046DA14
, 5F046DA30
