特許
J-GLOBAL ID：200903082399405671

測定装置

発明者：
谷 武晴

谷 武晴 について

, 
納谷 昌之

納谷 昌之 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (2件)： 柳田 征史 ,  佐久間 剛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-197667
公開番号（公開出願番号）：特開2006-017648
出願日： 2004年07月05日
公開日（公表日）： 2006年01月19日
要約：
【課題】 試料の2次元物性を測定する表面プラズモン共鳴測定装置や漏洩モード測定装置において、測定面上のどの部分の試料について測定しているかを正確に認識可能とする。 【解決手段】 誘電体ブロック10と、その一面10bに形成されて試料に接触させられる薄膜層12と、光ビームを発生させる光源14と、光ビーム13Bを誘電体ブロック10に対して、それと薄膜層12との界面10aで全反射するように入射させる入射光学系15と、上記界面10aにおいて全反射した光ビーム13Bの強度を検出する2次元光検出手段20とを備えてなる測定装置において、上記一面10bに、光ビーム13Bの照射範囲内において所定のパターン12を形成し、このパターン12に基づいて、誘電体ブロック10の一面10b上における物体の形状と、2次元光検出手段20が検出した該物体の形状とが相似となるように、該2次元光検出手段20の出力Sを補正する補正手段24を設ける。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
誘電体ブロックと、 この誘電体ブロックの一面に形成されて試料に接触させられる、該誘電体ブロックよりも低屈折率の薄膜層と、 光ビームを発生させる光源と、 前記光ビームを前記誘電体ブロックに対して、該誘電体ブロックと前記薄膜層との界面で全反射条件が得られるように入射させる入射光学系と、 前記界面で全反射した光ビームの強度を、そのビーム断面内の複数の位置毎に測定する2次元光検出手段とを備えてなる測定装置において、 前記誘電体ブロックの一面に、そこに照射される前記光ビームの照射範囲内において所定のパターンが形成され、 このパターンに基づいて、前記誘電体ブロックの一面上における物体の形状と、前記2次元光検出手段が検出した該物体の形状とが相似となるように、該2次元光検出手段の出力を補正する補正手段が設けられたことを特徴とする測定装置。
IPC (1件)：
G01N 21/27
FI (1件)：
G01N21/27 C
Fターム (18件)：
2G059AA01 ,  2G059AA05 ,  2G059BB12 ,  2G059CC16 ,  2G059EE02 ,  2G059EE05 ,  2G059GG04 ,  2G059GG10 ,  2G059JJ01 ,  2G059JJ05 ,  2G059JJ11 ,  2G059JJ19 ,  2G059JJ20 ,  2G059KK04 ,  2G059MM05 ,  2G059MM10 ,  2G059MM14 ,  2G059PP04
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (8件)
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